[發明專利]可切換濾波器和設計結構有效
| 申請號: | 201310022416.9 | 申請日: | 2013-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN103227619A | 公開(公告)日: | 2013-07-31 |
| 發明(設計)人: | J·W·阿基森;P·坎德拉;T·J·鄧巴;J·P·甘比諾;M·D·賈菲;A·K·斯塔珀;R·L·沃爾夫 | 申請(專利權)人: | 國際商業機器公司 |
| 主分類號: | H03H9/64 | 分類號: | H03H9/64 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 于靜;張亞非 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 切換 濾波器 設計 結構 | ||
1.一種方法,包括:
形成至少一個壓電濾波器結構,所述至少一個壓電濾波器結構包括在壓電基底上形成的多個電極,包括:
在所述壓電基底上形成具有多個指狀物的固定電極;
在所述壓電基底之上形成具有多個指狀物的可動電極;以及
形成與所述可動電極的所述多個指狀物中的一個或多個指狀物對準的致動器。
2.如權利要求1所述的方法,其中,所述可動電極被形成為地電極,在被致動時,所述可動電極的所述多個指狀物變為與所述固定電極的所述多個指狀物交錯。
3.如權利要求1所述的方法,其中,所述可動電極被形成為Vin電極,在被致動時,所述Vin電極的所述多個指狀物變為與所述地電極的所述多個指狀物交錯。
4.如權利要求1所述的方法,其中,形成所述致動器包括在所述壓電基底中蝕刻出溝槽并將金屬或金屬合金沉積在所述溝槽中。
5.如權利要求1所述的方法,其中,形成所述致動器包括使所述致動器與所述可動電極的所述多個指狀物對準。
6.如權利要求1所述的方法,其中,形成所述致動器包括形成比所述可動電極的所述多個指狀物的數量少的致動器。
7.如權利要求1所述的方法,其中,所述至少一個壓電濾波器結構是表面聲波(SAW)濾波器。
8.如權利要求7所述的方法,其中,形成所述SAW濾波器包括:
形成包括交錯的信號電極和地電極的Vin叉指換能器(IDT);以及
形成包括交錯的信號電極和地電極的Vout?IDT。
9.如權利要求8所述的方法,其中,形成所述可動電極包括將所述可動電極定位在所述Vin?IDT或所述Vout?IDT的所述信號電極的上方。
10.如權利要求8所述的方法,其中,形成所述可動電極包括將所述可動電極定位在所述Vin?IDT或所述Vout?IDT的地電極的上方。
11.如權利要求1所述的方法,其中,形成所述可動電極包括:
在所述固定電極和所述致動器之上形成絕緣體層;
對所述絕緣體層進行構圖以暴露所述固定電極;
在所述絕緣體層的圖形中并在所述固定電極之上沉積犧牲材料;
在所述犧牲材料上形成所述可動電極,所述可動電極被定位為使其多個指狀物與所述固定電極的所述多個指狀物交錯;
在所述可動電極之上形成附加的犧牲材料;
將至少一個致動器形成在所述附加的犧牲材料之上并與所述可動電極的所述多個指狀物中的至少一個對準;
在所述附加的犧牲材料之上形成帽蓋層;
在所述帽蓋層中形成至少一個通氣孔;
通過所述至少一個通氣孔對所述犧牲材料和所述附加的犧牲材料開孔,以在所述可動電極附近形成上部腔和下部腔;以及
用材料來封閉所述至少一個通氣孔。
12.如權利要求11所述的方法,其中,形成所述附加的犧牲材料包括:
在所述犧牲材料上沉積絕緣體材料;
對所述絕緣體材料進行構圖;以及
將所述附加的犧牲材料沉積在所述絕緣體材料的所述圖形中。
13.如權利要求11所述的方法,其中,形成所述附加的犧牲材料包括:
將所述附加的犧牲材料沉積在所述犧牲材料上;以及
對所述附加的犧牲材料進行構圖。
14.如權利要求1所述的方法,其中,所述致動器被形成在所述可動電極的上方和下方。
15.一種濾波器,包括至少一個濾波器,所述至少一個濾波器包括在壓電基底上形成的多個電極,其中所述多個電極包括可動電極和固定電極,所述可動電極和固定電極二者都具有多個指狀物,所述多個指狀物被定位為在開啟狀態下互相交錯。
16.如權利要求15所述的濾波器,其中,所述可動電極是地電極,且所述固定電極是信號電極。
17.如權利要求15所述的濾波器,其中,所述可動電極是信號電極,且所述固定電極是地電極。
18.如權利要求15所述的濾波器,還包括位于所述可動電極的上方和下方的多個致動器。
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