[發(fā)明專利]具有抗菌作用的物質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310021780.3
• 申請日: 2007-11-13
• 公開（公告）號: CN103300065B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 約瑟夫·彼得·古根比齊勒;尼科·埃伯哈特;漢斯-彼得·馬丁斯;海科·維爾德納
• 申請（專利權(quán)）人: 約瑟夫·彼得·古根比齊勒
• 主分類號: A01N59/16
• 分類號: A01N59/16;A01N59/20;A01P1/00;C08K3/22;C08K3/08;C08K9/10;C08L23/06
• 代理公司: 北京金信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11225
• 代理人: 朱梅,李維盈

1.一種在與含水介質(zhì)接觸時引起氫陽離子形成以實現(xiàn)抗菌作用的無機物質(zhì)的用途，其特征在于，該物質(zhì)含有鉬和/或鎢。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用途，其特征在于，所述含水介質(zhì)為水、溶液或者懸浮液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項所述的用途，其特征在于，所述含水介質(zhì)為體液或者組織液。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項所述的用途，其特征在于，所述含水介質(zhì)在所述物質(zhì)的表面上以吸濕膜的形式存在。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的用途，其特征在于，由于氫陽離子的形成，所述含水介質(zhì)的pH值<6.0。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)在所述含水介質(zhì)中的溶解度低于0.1摩爾/升。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)的表面是至少部分氧化的。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)為Mo氧化物或者W氧化物。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用途，其特征在于，所述Mo氧化物為MoO₂和/或MoO₃。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用途，其特征在于，所述W氧化物為鎢青銅氧化物和/或WO₃。

11.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)為鉬、鉬合金和/或鉬化合物，其表面包括Mo氧化物層。

12.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)為鎢、鎢合金和/或鎢化合物，其表面包括鎢氧化物層。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用途，其特征在于，所述鉬合金為Mo與0.1～1wt%La₂O₃的合金；Mo與0.5wt%Ti、0.08wt%Zr、0.01～0.04wt%C的合金；Mo與5～50wt%Re的合金；或者Mo與1.2wt%Hf、0.02～0.15wt%C的合金。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的用途，其特征在于，所述鎢合金為W與0.1～1wt%La₂O₃的合金或者W與1～26wt%Re的合金。

15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用途，其特征在于，所述鉬化合物為碳化鉬、氮化鉬、硅化鉬和/或硫化鉬。

16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的用途，其特征在于，所述鎢化合物為碳化鎢、氮化鎢、硅化鎢和/或硫化鎢。

17.根據(jù)權(quán)利要求1～16中任一項所述的用途，其特征在于，除了所述物質(zhì)以外，還存在其它化學(xué)貴金屬的物相。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的用途，其特征在于，所述物相為Ag、Cu、Sn和/或這些金屬的合金。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)以Mo-Ag、Mo-Cu、Mo-Sn、W-Ag、W-Cu和/或W-Sn材料的形式存在。

20.根據(jù)權(quán)利要求18或21所述的用途，其特征在于，所述Mo和/或W的含量為10～90原子%。

21.根據(jù)權(quán)利要求1～20中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)以致密形式存在。

22.根據(jù)權(quán)利要求1～20中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)以多孔形式存在。

23.根據(jù)權(quán)利要求1～22中任一項所述的用途，其特征在于，所述物質(zhì)以層或者層的成分存在。

24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的用途，其特征在于，所述層包含Mo氧化物和/或W氧化物。

25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的用途，其特征在于，所述層包含Mo和Mo氧化物，或者W和W氧化物。

26.根據(jù)權(quán)利要求23～25中任一項所述的用途，其特征在于，所述層通過電子束蒸發(fā)、濺射、化學(xué)氣相沉積、電泳、漿料技術(shù)、溶膠-凝膠技術(shù)或者等離子噴涂方式被沉積。