[發明專利]渦旋壓縮機

有效

• 申請號: 201310020858.X
• 申請日: 2013-01-21
• 公開（公告）號: CN103939338B
• 公開（公告）日: 2017-03-15
• 發明（設計）人: 蘇曉耕;朱銀波
• 申請（專利權）人: 艾默生環境優化技術（蘇州）有限公司
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F04C29/02;F04C27/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 田軍鋒,潘煒

1.一種渦旋壓縮機（100），包括：

動渦旋部件（160），所述動渦旋部件（160）包括動渦旋端板（164）和形成在所述動渦旋端板一側的螺旋狀的動渦旋葉片（166）;

定渦旋部件（150），所述定渦旋部件（150）包括定渦旋端板（154）、形成在所述定渦旋端板一側的螺旋狀的定渦旋葉片（156）以及形成在所述定渦旋端板另一側的凹部（158），所述凹部（158）經由中壓通道（155）與所述動渦旋葉片（166）和所述定渦旋葉片（156）之間形成的一系列壓縮腔（C1、C2、C3）中的一個流體連通；

密封組件（PS1，PS2，PS3，PS4，PS5，PS6），所述密封組件（PS1，PS2，PS3，PS4，PS5，PS6）與所述凹部（158）配合以共同形成背壓腔（BC），并且所述密封組件（PS1，PS2，PS3，PS4，PS5，PS6）構造成將所述背壓腔（BC）與所述渦旋壓縮機（100）中的高壓側和低壓側隔開；以及

泄漏通道（L），所述泄漏通道（L）構造成允許所述背壓腔（BC）中的流體泄漏。

2.如權利要求1所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）構造成允許所述背壓腔（BC）中的流體向所述高壓側泄漏。

3.如權利要求2所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）形成在所述密封組件（PS1，PS2，PS3，PS4）中。

4.如權利要求3所述的渦旋壓縮機，其中所述密封組件（PS1，PS2，PS3）設置在所述凹部（158）中，并且

所述密封組件（PS1，PS2，PS3）包括：防止流體從所述高壓側流動到所述背壓腔（BC）但是允許流體從所述背壓腔（BC）流動到所述高壓側的第一密封件（S3）以及防止流體從所述背壓腔（BC）流動到所述高壓側但是允許流體從所述高壓側流動到所述背壓腔（BC）的第二密封件（S4）。

5.如權利要求4所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）形成在所述第二密封件（S4）中。

6.如權利要求4所述的渦旋壓縮機，其中所述第二密封件（S4）包括：大致環狀的本體（S42）以及從所述本體（S42）朝向所述定渦旋端板（154）延伸且抵靠所述凹部（158）的徑向內側壁的密封唇（S44），所述泄漏通道（L）形成在所述第二密封件（S4）的密封唇（S44）中。

7.如權利要求6所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）為形成在所述第二密封件（S4）的密封唇（S44）中的通孔（S46）。

8.如權利要求6所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）為形成在所述第二密封件（S4）的密封唇（S44）的邊緣的切口（S47）。

9.如權利要求6所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）為形成在所述第二密封件（S4）的本體（S42）或密封唇（S44）中的通孔（S46）。

10.如權利要求9所述的渦旋壓縮機，其中所述密封組件（PS3）還包括設置在所述第一密封件（S3）和所述第二密封件（S4）之間的中間板（S6），在所述中間板（S6）的與所述通孔（S46）對應的位置處形成有切口（S62）。

11.如權利要求3所述的渦旋壓縮機，其中所述密封組件（PS4）設置在所述凹部（158）中，并且

所述密封組件（PS4）包括：防止流體從所述高壓側流動到所述背壓腔（BC）但是允許流體從所述背壓腔（BC）流動到所述高壓側的第一密封件（S3）以及防止流體從所述背壓腔（BC）流動到所述高壓側并且防止流體從所述高壓側流動到所述背壓腔（BC）的第二密封件（S4）。

12.如權利要求11所述的渦旋壓縮機，其中所述第二密封件（S4）為O形圈。

13.如權利要求11所述的渦旋壓縮機，其中所述密封組件（PS4）包括支撐所述第二密封件（S4）的下板（S2），所述下板（S2）中形成有允許所述背壓腔（BC）中的流體進入所述第一密封件（S3）和所述第二密封件（S4）之間的空間的通道（S22）。

14.如權利要求2所述的渦旋壓縮機，其中所述泄漏通道（L）形成在所述凹部（158）的徑向內側壁（1581）中。