[發(fā)明專利]一種金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310019993.2
• 申請日: 2013-01-08
• 公開（公告）號: CN103177870A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設計）人: 吳衛(wèi)東
• 申請（專利權）人: 吳衛(wèi)東
• 主分類號: H01G4/002
• 分類號: H01G4/002;H01G4/005;H01G4/015;H01G4/224;H01G4/32;H01G4/38
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1.一種金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件，主要由殼體、芯體、電極端子組成，芯體為由兩層聚丙烯介質基膜(J)上鍍覆鋅/鋁金屬電極鍍層構成的復合膜層疊卷繞在芯棒兩端噴金所形成的圓柱體，殼體和芯體之間由絕緣樹脂灌封，其特征在于所述的復合膜由若干縱向的內留空白條(2.2)在橫向上分成若干個縱向單元區(qū)塊，每個單元區(qū)塊內的連續(xù)鍍層區(qū)的兩側均為網格區(qū)，每個網格區(qū)由短空隙窄條(2.21)把鍍層分割隔離形成一列縱向排列的小方塊電極(1.21)構成，每個小方塊電極(1.21)的一側與內留空白條(2.2)鄰接，相對的另一側由設置在短空隙窄條(2.21)中部的獨用導電橋(1.23)與連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)連通；在復合膜的兩側邊分別制有縱向上連續(xù)的功能帶。

2.根據權利要求1所述的金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件，其特征在于所述的功能帶為無鍍層的留邊(2.1)或鍍層加厚邊(1.1)。

3.根據權利要求1或2所述的金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件，其特征在于所述復合膜一側邊的功能帶為無鍍層的留邊(2.1)，另一側邊的功能帶為鍍層加厚邊(1.1)，所述的連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)的寬度基本上等于兩列有隔離的小方塊電極(1.21)及內留空白條(2.2)三者寬度之和；各內留空白條兩側的小方塊電極之間沒有直接的導電通路，各連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)兩側的小方塊電極(1.21)通過導電橋(1.23)經連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)相互連通；以兩層這種金屬化安全膜左右對稱并在橫向上錯開一距離層疊，上下層的留邊(2.1)和鍍層加厚邊(1.1)相互交錯對應，使疊層的兩側鍍層加厚邊都位于突出的位置，便于鍍層加厚邊和外部噴金相連再與電極端子連接；同時上下層的內留空白條的中心線與連續(xù)鍍層區(qū)的中心線基本上相互重合，上下層的網格區(qū)與連續(xù)鍍層區(qū)相互上下對應，使每個小方塊電極(1.21)分別與相對的鄰層連續(xù)鍍層(1.11)構成的電極及電極間的介質構成微型小電容器(C)；每個有隔離的小方塊電極與本層膜上的相鄰連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)之間的導電橋(1.23)成為此小電容C的微型熔斷器R；由上下層膜上相互對應著的兩個導電橋(1.23)相連的兩個微型小電容器(C)并聯構成最小基本電子構件(E)；各內部連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)在縱向上全連通，使各基本電子構件E通過其上下層的連續(xù)鍍層電極(1.11)在縱向上與相鄰基本電子構件并聯連接，同時在橫向與相鄰基本電子構件串聯連接，并由內留空白條(2.2)對橫向相鄰基本電子構件間不同電位電極作絕緣隔離。

4.根據權利要求3所述的金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件，其特征在于鍍層加厚邊內側的基本電子構件與鍍層加厚邊(1.1)相連的連續(xù)鍍層電極被附加延伸的隔離空隙條(2.22)作縱向隔離構成半連續(xù)電極塊(1.12)。

5.根據權利要求3所述的金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件，其特征在于各內部基本電子構件的橫向寬度及電極面積分別都基本相等，內留空白條寬度大致上為留邊寬度的1.5～2倍；留邊與其最近的內留空白條之間距離與各內留空白條間距相比，大致上大10％；鍍層加厚邊與其最近的內留空白條之間距離與各內留空白條間距的1/2相比，大致上大15％～25％；所有小方塊電極(1.21)的縱向寬度大致相等，大致為5～10mm，橫向寬度也大致相等，大致為內留空白條間距或內留空白條和留邊之間距離的1/4。

6.根據權利要求1或2所述的金屬化安全膜干式高壓電力電容器元件，其特征在于復合膜的兩側邊的功能帶均為無鍍層的留邊(2.1)，或者均為鍍層加厚邊(1.1)，有鍍層加厚邊的那層膜比有留邊的那層膜的橫向寬度大1.5～3mm；以這兩種金屬化安全膜上下中心線對準疊層，兩側鍍層加厚邊(1.1)都位于突出的位置，便于鍍層加厚邊和外部噴金相連再與電極端子連接；所述的連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)的寬度基本上等于兩列有隔離的小方塊電極(1.21)及內留空白條(2.2)三者寬度之和；各連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)兩側的小方塊電極(1.21)之間沒有直接的導電通路，只通過導電橋(1.23)經連續(xù)鍍層區(qū)(1.11)相互連通；上下層的內留空白條的中心線與連續(xù)鍍層區(qū)的中心線基本上相互重合，上下層的小方塊電極(1.21)與連續(xù)鍍層區(qū)(1.1)相互上下對應。