[發明專利]一種滋潤型浴鹽

無效

• 申請號: 201310019930.7
• 申請日: 2013-01-19
• 公開（公告）號: CN103932900A
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 胡全會
• 申請（專利權）人: 胡全會
• 主分類號: A61K8/362
• 分類號: A61K8/362;A61K8/34;A61K8/24;A61K8/23;A61K8/20;A61K8/19;A61Q19/10
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技術領域

本發明涉及化妝品技術領域，特別是涉及一種滋潤型浴鹽。

背景技術

化妝品是以涂擦、噴灑或其他類似的方法，散布于人體表面任何部位（皮膚、毛發、支架、口唇等）以達到清潔、消除不良氣味、護膚、美容和修飾目的的日用化學工業產品。

化妝品對人體的作用必須緩和、安全、無毒、無副作用，并且主要以清潔、保護、美化為目的。

皮膚是人體自然防御體系的第一道防線，皮膚健康，防御能力就強。而且健康美麗的皮膚能給予人美的享受，給人輕松、愉快、清秀之感。

要想讓皮膚健康和美麗，首先就要保持皮膚的清潔衛生。由于角質層的老化、皮脂腺分泌皮脂、汗腺分泌汗液以及其他內分泌物和外來的灰塵等混雜在一起附著在皮膚上污垢，這些污垢一方面會堵塞皮脂腺和汗腺，妨礙皮膚的政策新陳代謝，同時皮脂極易為空氣氧化，產生不愉快的臭味，促使病原菌的繁殖，最終導致各種皮膚病的發生，加速皮膚的老化。因此，要經常保持皮膚的清潔。

皮脂腺粉末皮脂，使人的皮膚保持柔軟、光滑和彈性。但是，當人的生理機能失調、季節的變化、周圍環境的影響等會引起皮膚粗糙、皸裂、色素沉著等皮膚病的發生；再者，接觸某些物質如用肥皂、堿性洗浴劑等清潔皮膚時，在去除附著于皮膚表面污垢的同時，也會導致過度脫脂的現象，使這層天然的護膚分泌物過度流失。所以，皮膚的清潔用品不能堿性太強。

清潔皮膚用化妝品主要有各種清潔霜、清潔乳液、磨面膏、磨面乳液、去死皮膏、滋潤潔面乳、沐浴用品等。其類型有入籍和液洗類。

浴液，也稱沐浴露，是洗浴時直接涂覆于身上或借助毛巾涂擦于身上，輕柔搓達到去除污垢目的的沐浴用品。過去人們大多使用肥皂、香皂、浴皂等洗澡，雖然它們具有較強的洗凈作用，但是由于它們呈堿性，致使皮膚過度脫脂，容易出現皮膚干燥、無光澤等現象。隨著表面活性劑工業的發展，目前的浴液制品主要有兩類，一類是易沖洗的以皂基表面活性劑為主體的浴液，一類是呈微酸性的以各種合成表面活性劑為主體的浴液。

浴液與液體香波有許多相似之處：外觀均呈粘稠狀液體，其主要成分均為各類表面活性劑。均具有發泡性，對皮膚、毛發均有洗凈去污能力。但是由于其使用對象不同故有著不同的特性。香波尤其是調理香波其中添加了多種有護發作用的添加劑。但是現有的浴液不能兼顧良好清潔性能的同時有效滋潤皮膚。

發明內容

為了解決上述問題，本發明的目的在于，提供一種兼顧良好清潔性能的同時有效滋潤皮膚的滋潤型浴鹽。

本發明是通過以下技術方案來實現的：

一種滋潤型浴鹽；包括按照質量百分比計算的以下物質：

所述滋潤型浴鹽；包括按照質量百分比計算的以下物質：

制備所述滋潤型浴鹽的方法：先將所述薄荷腦表面活性劑混合，再加入去離子水；在攪拌下加熱至70℃，混合均勻后，加入其它所述物質，最后降溫至50℃時，加入防腐劑和香精，冷卻至室溫，即得所述滋潤型浴鹽。

本發明的原料包括各種油、脂、蠟、乳化劑、水和添加劑。在具有清潔皮膚表面，補充皮脂的不足，滋潤皮脂的不足，滋潤皮膚，促進皮膚的新陳代謝的同時，能有效地清除皮膚上的污垢及皮膚表面的老化角質細胞。同時這種摩擦對皮膚所產生的刺激作用可以促進血液循環及新陳代謝，舒展皮膚的細小皺紋，增進皮膚對營養成分的吸收；尤其是本發明根據潔膚產品的特性經過精心設計和實驗，能保良好清潔性能的同時，有效滋潤皮膚。

具體的實施方式

下面結合具體實施方式對本發明作進一步的詳細說明，以助于本領域技術人員理解本發明。

實施例1

一種滋潤型浴鹽；包括按照質量百分比計算的以下物質：

薄荷腦10%、六偏磷酸鈉10%、酒石酸25%、硫酸鈉15%、碳酸氫鈉25%、氯化鈉15%。

制備方法：先將所述薄荷腦表面活性劑混合，再加入去離子水；在攪拌下加熱至70℃，混合均勻后，加入其它所述物質，最后降溫至50℃時，加入防腐劑和香精，冷卻至室溫，即得所述滋潤型浴鹽。

實施例2

一種滋潤型浴鹽；包括按照質量百分比計算的以下物質：

薄荷腦20%、六偏磷酸鈉15%、酒石酸20%、硫酸鈉10%、碳酸氫鈉20%、氯化鈉15%。

制備方法同實施例1。

實施例3

一種滋潤型浴鹽；包括按照質量百分比計算的以下物質：

薄荷腦5%、六偏磷酸鈉5%、酒石酸30%、硫酸鈉20%、碳酸氫鈉30%、氯化鈉10%。

制備方法同實施例1。

上述實施例，只是本發明的較佳實施例，并非用來限制本發明實施范圍，故凡以本發明權利要求所述的特征及原理所做的等效變化或修飾，均應包括在本發明權利要求范圍之內。