[發明專利]一種磨料自供式拋光系統無效
| 申請號: | 201310018969.7 | 申請日: | 2013-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN103100980A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發明(設計)人: | 張雷;周宛松;冀世軍;王昕 | 申請(專利權)人: | 吉林大學 |
| 主分類號: | B24B57/02 | 分類號: | B24B57/02 |
| 代理公司: | 吉林長春新紀元專利代理有限責任公司 22100 | 代理人: | 魏征驥 |
| 地址: | 130022 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 磨料 自供 拋光 系統 | ||
技術領域
本發明屬于機械制造領域,具體涉及一種拋光工具,適用于零件拋光。?
背景技術
具有較高使用要求的零件,特別是光學元件在使用之前一般需要通過拋光處理達到較低的表面粗糙度和較高的面型精度。目前,常用的拋光方式是在軟質拋光工具、如拋光布、拋光墊和被拋光工件之間添加游離磨料。這種游離磨料拋光方法的不足之處在于:(1)拋光工具與工件之間的游離磨料在旋轉工具的帶動下,易被甩出拋光區域,特別是拋光區域邊界處的游離磨料更易被甩出,使得拋光區域邊界處的游離磨料較拋光區域中心處要少,造成拋光區域內不同位置處出現去除不均勻的現象;(2)拋光過程中,拋光工具與工件的接觸以及拋光工具周邊較高的速度,會使得游離磨料較難持續性添加到拋光工具與工件之間,參與拋光的游離磨料更新不及時。上述不足之處造成游離磨料拋光質量較難控制,拋光效率低。
發明內容
本發明提供一種磨料自供式拋光系統,以解決目前游離磨料拋光效果差和拋光效率低的問題。?
本發明采用的技術方案是:螺旋供料裝置與支撐座固定連接,電機的輸出軸通過聯軸器與螺旋供料裝置的螺旋軸的一端連接,該螺旋軸的另一端通過螺釘與拋光工具的拋光頭連接;供液和回收系統與螺旋供料裝置連接;
所述螺旋供料裝置結構是:螺旋軸與外筒之間安裝有軸承一和軸承二,密封圈一、密封圈二、密封圈三、密封圈四位于螺旋軸和外筒之間,外筒上有排液口一和排液口二,外筒上有進液口,端蓋與外筒的一端固定連接;
所述螺旋供料裝置的螺旋軸結構是:它中部開有螺旋槽,螺旋槽與外筒之間形成一個空腔,它另一端開有中心孔一和沿圓周分布的一圈出液孔,出液孔一與中心孔一連通;
所述拋光工具的結構是:拋光頭上均布有若干個形狀相同的圓弧槽,槽寬沿拋光頭徑向逐漸增加;圓弧槽上沿徑向開有出液孔二,出液孔二的孔徑沿拋光頭徑向逐漸增大,拋光頭開有與圓弧槽上的出液口相通的中心孔二,中心孔二和螺旋軸一端的中心孔一相通,拋光頭上的非圓弧槽部分粘接有拋光布;
所述供液和回收系統的結構是:用于儲存拋光液的儲液罐與泵連接,泵的輸出端通過管路與螺旋供料裝置的外筒上的進液口連通,外筒上的排液口一和排液口二分別通過管接頭一、管道一、管接頭二和管接頭三、管道二、管接頭四與收集槽連接。
本發明考慮到由于拋光工具旋轉造成拋光接觸區域中心和邊緣處拋光磨料分布不均勻,通過設計拋光頭上出液孔的孔徑和數目、圓弧槽的寬窄,促使拋光區域內拋光磨料分布均勻,提高拋光效率和拋光質量。
本發明的優點是:(1)可實現向拋光接觸區域持續提供游離磨料,保證拋光接觸區域內參與拋光的游離磨料的及時更新;(2)提供給拋光接觸區域中心和邊緣處的游離磨料數量不同,提供給邊緣處的游離磨料多于提供給中心區域的游離磨料,克服了邊緣處游離磨料由于工具旋轉被甩出而造成的游離磨料不足的情況,保證了拋光接觸區域各處游離磨料分布基本均勻;(3)混有游離磨料的拋光液通過泵輸出,可實現拋光液的自動可控供給。
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖;
圖2是圖1的左視圖;
圖3是本發明外筒的結構示意圖。
圖4是本發明螺旋軸的結構示意圖;
圖5是圖4的左視圖;
圖6是本發明拋光頭的結構示意圖;
圖7是圖6的右視圖;
圖8是圖6的左視圖。
具體實施方式
螺旋供料裝置與支撐座9固定連接,電機4的輸出軸通過聯軸器5與螺旋供料裝置的螺旋軸6的一端連接,該螺旋軸6的另一端通過螺釘與拋光工具的拋光頭19連接;供液和回收系統與螺旋供料裝置連接;
所述螺旋供料裝置結構是:螺旋軸6與外筒13之間安裝有軸承一7和軸承二17,密封圈一12、密封圈二15、密封圈三10、密封圈四18位于螺旋軸6和外筒13之間,外筒13上有排液口一32和排液口二33,外筒13上有進液口31,端蓋8與外筒13的一端固定連接;
所述螺旋供料裝置的螺旋軸結構是:它中部開有螺旋槽27,螺旋槽27與外筒13之間形成一個空腔,它另一端開有中心孔一26和沿圓周分布的一圈出液孔25,出液孔一25與中心孔一26連通;
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