[發明專利]進氣系統及基片處理設備有效
| 申請號: | 201310018695.1 | 申請日: | 2013-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN103943534B | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發明(設計)人: | 楊盟 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/3065 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,張天舒 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 系統 處理 設備 | ||
1.一種進氣系統,包括與反應腔室相連通的進氣口、進氣管路以及至少一個氣源,且不同氣源的氣體種類不同,其特征在于,
所述進氣管路包括干路、干路閥門、支路和支路閥門,其中
所述干路連接在所述進氣口和各個氣源之間,用以將自所述氣源輸出的氣體經由所述進氣口輸送至所述反應腔室中;
所述干路閥門設置于所述干路上,用于接通或斷開所述干路;
所述支路的一端串接于所述干路中并位于所述干路閥門的上游,用于在干路閥門關閉時排出所述干路中的氣體;
所述支路閥門設置于所述支路上,用于接通或斷開所述支路;
所述氣源包括至少一個載氣氣源和至少一個反應氣體氣源;
所述干路包括載氣干路和反應氣體干路,所述載氣干路連接在所述進氣口和各個載氣氣源之間,用以將自所述載氣氣源輸出的載氣經由所述進氣口輸送至所述反應腔室中;所述反應氣體干路連接在所述進氣口和各個反應氣體氣源之間,用以將自所述反應氣體氣源輸出的反應氣體經由所述進氣口輸送至所述反應腔室中。
2.根據權利要求1所述的進氣系統,其特征在于,
所述干路閥門包括載氣干路閥門和反應氣體干路閥門,所述載氣干路閥門和反應氣體干路閥門對應設置于所述載氣干路和反應氣體干路上,用于接通或斷開相應的干路;
所述支路包括反應氣體支路,所述反應氣體支路的一端串接于所述反應氣體干路中并位于所述反應氣體干路閥門的上游,用于在反應氣體干路閥門關閉時排出所述反應氣體干路中的反應氣體;并且,在所述反應氣體支路上設置有反應氣體支路閥門,用于接通或斷開所述反應氣體支路。
3.根據權利要求2所述的進氣系統,其特征在于,所述反應氣體干路的數量為至少一條,且每條所述反應氣體干路與反應氣體氣源中的至少一個連接;
所述反應氣體干路閥門的數量與所述反應氣體干路的數量相對應,且所述反應氣體干路閥門一一對應地設置于所述反應氣體干路上;
所述反應氣體支路的數量與所述反應氣體干路的數量相對應,且所述反應氣體支路的一端一一對應地串接于所述反應氣體干路中并位于所述反應氣體干路閥門的上游。
4.根據權利要求2所述的進氣系統,其特征在于,所述載氣干路的數量為至少一條,且每條所述載氣干路與載氣氣源中的至少一個連接;并且
所述載氣干路閥門的數量與所述載氣干路的數量相對應,且所述載氣干路閥門一一對應地設置于所述載氣干路上。
5.根據權利要求4所述的進氣系統,其特征在于,所述支路還包括載氣支路,所述載氣支路的一端串接于所述載氣干路中并位于所述載氣干路閥門的上游,用于在載氣干路閥門關閉時排出所述載氣干路中的載氣;并且
在所述載氣支路上設置有載氣支路閥門,用于接通或斷開所述載氣支路。
6.根據權利要求5所述的進氣系統,其特征在于,所述載氣支路的數量少于或等于所述載氣干路的數量,每條所述載氣支路的一端串接于所述載氣干路中的其中一條,且位于所述載氣干路閥門的上游,并且各個載體支路連接不同的載氣干路。
7.根據權利要求2所述的進氣系統,其特征在于,所述載氣包括Ar和/或He。
8.根據權利要求2所述的進氣系統,其特征在于,所述反應氣體包括SF6、NF3、C4F8、O2和/或CHF3。
9.根據權利要求1-8任一所述的進氣系統,其特征在于,所述進氣系統還包括排氣泵,所述排氣泵分別與各個所述反應氣體支路和載氣支路的另一端連接,用以在相應的支路閥門開啟時抽取支路以及與該支路串接的干路中的氣體。
10.一種基片處理設備,其包括反應腔室以及用于向所述反應腔室輸送氣體的進氣系統,其特征在于,所述進氣系統采用權利要求1-9任意一項所述的進氣系統。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京北方華創微電子裝備有限公司,未經北京北方華創微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310018695.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種聲音喚醒方法及系統
- 下一篇:一種增稠劑出料過濾器
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





