[發明專利]一種銅銦鎵硒薄膜的硒化處理裝置、方法及銅銦鎵硒薄膜器件有效
| 申請號: | 201310018690.9 | 申請日: | 2013-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN103088301A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發明(設計)人: | 王文忠;王志;段東平 | 申請(專利權)人: | 中國科學院過程工程研究所 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54;C23C14/06;H01L31/032 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 銅銦鎵硒 薄膜 處理 裝置 方法 器件 | ||
技術領域
本發明涉及太陽能電池制備領域,具體地說,涉及一種銅銦鎵硒薄膜的硒化處理裝置、方法及銅銦鎵硒薄膜器件。
背景技術
銅銦鎵硒(簡稱CIGS)薄膜太陽能電池材料屬于I-III-VI族半導體材料,通過調整CIGS四種元素的配比,以Ga代替CIGS材料中的部分In,形成CuIn1-xGaxSe2結構,能隙可以在1.04~1.68eV之間連續可調,為制備Ga組分調控的銅銦鎵硒薄膜疊層電池提供了重要的理論依據,電池組件的光電轉換效率可以達到20.3%。用于制備高光電轉化效率CIGS薄膜太陽能電池的主要方法包括:共蒸發法、金屬合金預制層硒化法和電沉積法,其中后兩種方法容易制備大面積CIGS器件,但通過金屬合金預制層硒化法和電沉積法制備的CIGS薄膜一般結晶性較差,晶粒數量多、尺寸小,需要熱處理來提高結晶度、改善表面形貌和增大晶粒尺寸,熱處理一般包括:真空退火、惰性氣體退火和硒氣氛退火三種方法,其中硒氣氛退火對于調整CIGS薄膜晶體的元素比例、增大晶體尺寸及增加CuIn1-xGaxSe2結構的含量,效果顯著,被科研單位和生產企業廣泛采用。
劉云等在雙溫區管式爐中,將硒源和CIGS基片分別放置于石英管的兩個溫區,在真空條件下進行硒化處理,硒源區域控溫在180~210℃,CIGS基片區域控制溫度在400~550℃,硒化處理后,經磁控濺射制備的金屬預制層晶粒明顯增大,表面結構平滑,但作者采用真空條件硒化,硒蒸氣壓力不夠穩定,此外硒源和CIGS基片沒有封閉,硒蒸氣會揮發到整個石英管,并在低溫區凝固,硒化工藝不穩定,CIGS薄膜容易出現針孔。
蔣方丹采用真空蒸發的方法進行CIGS預制層的硒化,由于使用鹵鎢燈和電熱絲分別加熱硒源和CIGS基片,硒源和CIGS基片距離較近,硒源和CIGS基片的溫度控制不準確,硒化工藝過程不夠穩定,而且這種方法難以同時硒化處理多個CIGS基片。
Mirasano在管式加熱爐中硒化處理CIGS器件,作者采用封閉式硒化單元,在一定惰性氣體壓力下高溫硒化處理CIGS器件,在整個硒化單元內硒蒸氣比較均勻,但作者使用單溫區管式爐,硒源和CIGS器件的溫度相同,難以調整CIGS薄膜中各金屬元素的比例,對CIGS薄膜成分的優化效果不夠理想。
因此,目前制備CIGS薄膜器件的方法中,存在硒化工藝不穩定,薄膜容易出現針孔、難以同時硒化處理多個CIGS基片,不能批量處理等問題。
發明內容
本發明的目的在于針對現有問題的不足,提出了一種銅銦鎵硒薄膜的硒化處理裝置、方法及銅銦鎵硒薄膜器件。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
本發明的目的之一在于提供一種銅銦鎵硒薄膜的硒化處理裝置,所述裝置包括石英管,所述石英管內部設有硒化單元,所述硒化單元包括通過隔熱材料相連接的硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽,兩凹槽上方設有防護罩,所述防護罩與兩凹槽之間形成密閉空間。
本發明所述的硒化單元中分開設置硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽,兩凹槽通過隔熱材料連接,從而使硒源和CIGS薄膜在硒化處理時分開放置,可以分別控制硒源和CIGS薄膜的溫度,利于調整CIGS薄膜中各金屬元素的比例,對CIGS薄膜成分的優化效果更加理想。本發明通過防護罩使硒化單元內部形成密閉空間,使硒蒸氣僅充滿硒化單元內部,而避免揮發到整個石英管,硒化工藝更加穩定,CIGS薄膜不會出現針孔。
本發明所述防護罩采用隔熱材料制成。優選地,所述隔熱材料采用多孔陶瓷和/或多孔玻璃。
本發明所述硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽采用良導熱材料制成。本領域技術人員可以從現有技術中獲知所述的良導熱材料。所述良導熱材料優選采用石墨、鉬或不銹鋼中的一種或至少兩種的組合。采用良導熱材料制備硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽,能夠使兩凹槽內的傳熱效率更高,利用溫度的精確控制。
本發明所述石英管兩端設有密封裝置。優選地,所述密封裝置選用硅橡膠或氟橡膠墊圈進行密封,并且石英管兩端均設有閥門。
本發明所述石英管與惰性氣源相連接。優選地,所述石英管一端連接真空泵,另一端連接惰性氣源。優選地,所述惰性氣源中惰性氣體為高純氬氣或高純氮氣。本發明使用惰性氣體對石英管保護,可以防止硒蒸氣高溫氧化。高純氣體是指利用現代提純技術能達到的某個等級純度的氣體。本發明所述“高純氬氣或高純氮氣”指純度等于或高于99.999%的氬氣或氮氣。
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