[發明專利]通過高溫處理從含硼粉末去除有機污染物的方法

有效

• 申請號: 201310018440.5
• 申請日: 2013-01-18
• 公開（公告）號: CN103213999A
• 公開（公告）日: 2013-07-24
• 發明（設計）人: J.M.勒斯蒂格;J.L.約翰寧
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C01B35/02
• 分類號: C01B35/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周李軍;林森

1.?一種從被污染硼粉末清除污染物的方法，該方法包括：

提供被污染硼粉末，其形式為與有機污染物相互混合的硼粉末；

將所述被污染硼粉末放置在惰性容器上；

將所述惰性容器和所述被污染硼粉末放置在封閉空間內；

改變所述封閉空間的環境以在該封閉空間之內產生缺氧氣氛；

為所述封閉空間提供熱源；

加熱所述被污染硼粉末至升高的溫度；和

蒸發所述污染物以減少與所述硼粉末相互混合的所述有機污染物的量。

2.?權利要求1的方法，其中改變封閉空間環境的步驟包括引入真空壓力至該封閉空間。

3.?權利要求2的方法，其中所述真空壓力低于約1.33?x?10^-4?Pa(1.0?x?10^-6?Torr)。

4.?權利要求1的方法，其中改變封閉空間環境的步驟包括引入惰性氣體至該封閉空間。

5.?權利要求4的方法，其中所述惰性氣體是氮氣。

6.?權利要求4的方法，其中所述惰性氣體是氬氣。

7.?權利要求1的方法，其中所述升高的溫度在約350℃和600℃之間。

8.?權利要求1的方法，其中與所述硼粉末相互混合的所述有機污染物的量在完成權利要求1的方法后為不超過約0.1重量%的可溶殘留物。

9.?權利要求1的方法，進一步包括以下步驟：在從所述封閉空間移出所述硼粉末前，冷卻該硼粉末至低于約150℃。

10.?一種從被污染硼粉末清除污染物的方法，該方法包括：

提供被污染硼粉末，其形式為與有機污染物相互混合的硼粉末；

將所述被污染硼粉末放置在惰性容器上；

將所述惰性容器和所述被污染硼粉末放置在封閉空間內；

改變所述封閉空間的環境以在該封閉空間之內產生缺氧氣氛；

為所述封閉空間提供熱源；

加熱所述被污染硼粉末至升高的溫度；和

蒸發所述污染物以使與所述硼粉末相互混合的所述有機污染物的量為不超過約0.1重量%的可溶殘留物。

11.?權利要求10的方法，其中改變封閉空間環境的步驟包括引入真空壓力至該封閉空間。

12.?權利要求11的方法，其中所述真空壓力低于約1.33?x?10^-4?Pa(1.0?x?10^-6?Torr)。

13.?權利要求10的方法，其中改變封閉空間環境的步驟包括引入惰性氣體至該封閉空間。

14.?權利要求13的方法，其中所述惰性氣體是氮氣。

15.?權利要求13的方法，其中所述惰性氣體是氬氣。

16.?權利要求10的方法，其中所述升高的溫度在約350℃和600℃之間。

17.?權利要求10的方法，進一步包括以下步驟：在從所述封閉空間移出所述硼粉末前，冷卻該硼粉末至低于約150℃。