[發明專利]一種激光干涉光刻系統

有效

• 申請號: 201310017811.8
• 申請日: 2013-01-17
• 公開（公告）號: CN103092003A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 朱煜;王磊杰;張鳴;劉召;楊開明;胡金春;尹文生;穆海華;胡楚雄;徐登峰;成榮
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/06
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 邸更巖

1.一種激光干涉光刻系統，包括激光器（1）、反射鏡、分束器（2）、基底臺（3）和基底（4）；激光器（1）出射的激光經反射鏡、分束器（2）后分為兩束干涉光束，兩束干涉光束經反射鏡在基底臺（3）承載的基底（4）上實現合光干涉，干涉圖形通過基底曝光實現圖形記錄轉移；其特征在于：所述系統還包括一個圖形鎖定系統，該圖形鎖定系統包括兩個光束采樣器（5）、零差相位計（6）、電子信號處理部件（7）、控制器（8）、驅動器（9）和相位調制執行器（10）；所述的兩個光束采樣器（5）分別位于靠近基底處的兩束干涉光路上，兩個光束采樣器（5）分別采取兩束干涉光路上的一部分光，其中一束為參考光，另一束為測量光，參考光與測量光分別從兩個入口入射至零差相位計（6）中，光信號經零差相位計（6）處理后，輸出包含干涉條紋相位信息的電信號，電信號經電子信號處理部件（7）后輸入至控制器（8），控制器（8）輸出控制信號至驅動器（9），驅動器（9）驅動相位調制執行器（10）；當干涉光刻系統的圖形發生漂移時，利用該圖形鎖定系統控制圖形漂移實現圖形鎖定。

2.根據權利要求1所述的一種激光干涉光刻系統，其特征在于：所述基底臺（3）相對于干涉圖形運動，由設置在基底臺（3）上的位移測量裝置（31）檢測基底臺（3）的運動位移并反饋至控制器（8），控制器（8）對零差相位計（6）與位移測量裝置（31）的反饋信息進行處理，同時控制相位調制執行器（10）和基底臺（3）實現干涉圖形相對于運動的基底臺（3）鎖定。

3.根據權利要求1或2所述的一種激光干涉光刻系統，其特征在于：所述的測量光和參考光分別從零差相位計（6）的兩個入口入射，傳播光路為：測量光經第一四分之一波片（62a）、分光鏡（61）后一束透射，另一束反射；參考光經第二四分之一波片（62b）、第一分光鏡（61）后一束透射，另一束反射；測量光的反射光和參考光的透射光形成第一束合光，測量光的透射光和參考光的反射光形成第二束合光；第一束合光經第一偏振分光鏡（63a）后，透射的p光入射至第一光電探測器（65a），反射的s光入射至第二光電探測器（65b）；第二束合光經半波片（64）、第二偏振分光鏡（63b）后，透射的p光入射至第三光電探測器（65c），反射的s光入射至第四光電探測器（65d）；經四個光電探測器轉換后形成四路相位相差90°的余弦電信號，輸入至電子信號處理部件（7）。

4.根據權利要求1或2所述的一種激光干涉光刻系統，其特征在于：所述的測量光和參考光分別從零差相位計（6）的兩個入口入射，傳播光路為：測量光經分光鏡（61）后一束透射，另一束反射；參考光經分光鏡（61）后一束透射，另一束反射；測量光的反射光和參考光的透射光形成第一束合光，測量光的透射光和參考光的反射光形成第二束合光；第一束合光經第一四分之一波片（62a）、第一偏振分光鏡（63a）后，透射的p光入射至第一光電探測器（65a），反射的s光入射至第二光電探測器（65b）；第二束合光經第二四分之一波片（62b）、第三四分之一波片（62c）、第二偏振分光鏡（63b）后，透射的p光入射至第三光電探測器（65c），反射的s光入射至第四光電探測器（65d）；經四個光電探測器轉換后形成四路相位相差90°的余弦電信號，輸入至電子信號處理部件（7）。

5.根據權利要求1或2所述的一種激光干涉光刻系統，其特征在于：所述的測量光和參考光分別從零差相位計（6）的兩個入口入射，傳播光路為：測量光經第一半波片（64a）、分光鏡（61）后一束透射，另一束反射；參考光經第二半波片（64b）、分光鏡（61）后一束透射，另一束反射；測量光的反射光和參考光的透射光形成第一束合光，測量光的透射光和參考光的反射光形成第二束合光；第一束合光經第一偏振分光鏡（63a）后，透射的p光入射至第一光電探測器（65a），反射的s光入射至第二光電探測器（65b）；第二束合光經四分之一波片（62）、第二偏振分光鏡（63b）后，透射的p光入射至第三光電探測器（65c），反射的s光入射至第四光電探測器（65d）；經四個光電探測器轉換后形成四路相位相差90°的余弦電信號，輸入至電子信號處理部件（7）。