[發明專利]玻璃基板的制造方法以及玻璃基板

有效

• 申請號: 201310014831.X
• 申請日: 2009-01-19
• 公開（公告）號: CN103121792A
• 公開（公告）日: 2013-05-29
• 發明（設計）人: 加藤嘉成;松木栄司
• 申請（專利權）人: 日本電氣硝子株式會社
• 主分類號: C03B25/00
• 分類號: C03B25/00
• 代理公司: 北京泛誠知識產權代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;朱弋

1.一種玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：

成型工序，其利用下拉法將熔融玻璃成型為帶狀；

退火工序，其對玻璃帶進行退火；以及

切割工序，其對玻璃帶進行切割，從而得到玻璃基板，

所述退火工序包括：

將玻璃冷卻至退火點為止的第一退火階段；

將玻璃冷卻至Tx為止的第二退火階段，其中，Tx是落在從比退火點低50°C的溫度至比退火點低200°C的溫度之間的溫度；以及

將玻璃冷卻至比Tx低250°C的溫度為止的第三退火階段，

使得第二退火階段的平均冷卻速度低于第一退火階段的平均冷卻速度。

2.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

第一退火階段的平均冷卻速度大于或等于30°C/分鐘，該第一退火階段的平均冷卻速度被定義為從比退火點高100°C的溫度至退火點為止的平均冷卻速度。

3.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

使得第三退火階段的平均冷卻速度高于第二退火階段的平均冷卻速度。

4.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

第三退火階段的平均冷卻速度大于或等于50°C/分鐘，該第三退火階段的平均冷卻速度被定義為從Tx至比Tx低250°C的溫度為止的平均冷卻速度。

5.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

以使得所述玻璃帶的有效寬度大于或等于500mm的方式，將熔融玻璃成型。

6.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述下拉法為溢流下拉法。

7.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用液相粘度大于或等于10^4.5dPa·s的玻璃。

8.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用應變點大于或等于600°C的玻璃。

9.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

使用以質量百分比計，含有SiO₂50～70％、Al₂O₃10～25％、B₂O₃3～15％、MgO0～10％、CaO0～15％、SrO0～15％、BaO0～15％、Na₂O0～5％的玻璃。

10.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，該制造方法是平板顯示器所使用的玻璃基板的制造方法。

11.根據權利要求10所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述平板顯示器是在基板上形成有低溫p-SiTFT的顯示器。

12.一種玻璃基板，其特征在于，

使用權利要求1～11中任意一種方法制作。