[發明專利]一種激光微造型掩膜及利用掩膜的激光微造型方法有效
| 申請號： | 201310013112.6 | 申請日： | 2013-01-14 |
| 公開（公告）號： | CN103071932A | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發明（設計）人： | 馮愛新;薛偉;田良;謝華錕;盧軼;顧永玉 | 申請（專利權）人： | 溫州大學;江蘇大學;成都工具研究所有限公司 |
| 主分類號： | B23K26/38 | 分類號： | B23K26/38;B23K26/42 |
| 代理公司： | 北京中北知識產權代理有限公司 11253 | 代理人： | 李雪芳 |
| 地址： | 325000 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 激光 造型 利用 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用掩膜的激光微造型方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）在工件表面覆蓋激光微造型掩膜；所述激光微造型掩膜由熔覆材料和粘結劑混合制成，所述粘結劑為易蒸發材料，且不與熔覆材料發生反應；所述激光微造型掩膜包括掩膜基底和掩膜微孔，掩膜微孔在掩膜基底上排列成點陣形狀；
（2）用連續激光對工件表面覆蓋激光微造型掩膜的區域進行快速掃描；激光使得熔覆材料熔覆在工件表面，并在工件表面燒蝕出微凹坑；當激光掃描完激光微造型掩膜覆蓋的區域，則同時完成了對材料表面的熔覆與微造型工作。
2.一種激光微造型掩膜，其特征在于，所述激光微造型掩膜由熔覆材料和粘結劑混合制成，所述粘結劑為易蒸發材料，且不與熔覆材料發生反應；所述激光微造型掩膜包括掩膜基底和掩膜微孔，掩膜微孔在掩膜基底上排列成點陣形狀。
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