[發(fā)明專利]干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310012209.5
• 申請(qǐng)日: 2013-01-11
• 公開（公告）號(hào): CN103217732B
• 公開（公告）日: 2018-01-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 新東晉;北原浩司;松下友紀(jì)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B5/28
• 分類號(hào): G02B5/28;G01N21/25;G01J3/28
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11240
• 代理人: 余剛,吳孟秋

1.一種干涉濾波器，其特征在于，所述干涉濾波器具備隔著間隙相互面對(duì)的兩個(gè)反射膜，其中，

所述反射膜包括：含有銀Ag、釤Sm以及銅Cu的Ag-Sm-Cu合金膜，

按原子數(shù)計(jì)，所述Ag-Sm-Cu合金膜含有0.1％以上0.5％以下的Sm，含有0.1％以上0.5％以下的Cu，且Sm以及Cu的合計(jì)為1.0％以下，

所述Ag-Sm-Cu合金膜的厚度為10nm以上且小于30nm，

所述反射膜為所述Ag-Sm-Cu合金膜的單層膜。

2.一種干涉濾波器，其特征在于，所述干涉濾波器具備隔著間隙相互面對(duì)的兩個(gè)反射膜，其中，

所述反射膜包括：含有銀Ag、鉍Bi以及釹Nd的Ag-Bi-Nd合金膜，

按原子數(shù)計(jì)，所述Ag-Bi-Nd合金膜含有0.1％以上3.0％以下的Bi，且含有0.1％以上5.0％以下的Nd，

所述Ag-Bi-Nd合金膜的厚度為10nm以上且小于30nm，

所述反射膜為所述Ag-Bi-Nd合金膜的單層膜。

3.一種光學(xué)模塊，其特征在于，所述光學(xué)模塊具備：

兩個(gè)反射膜，隔著間隙相互面對(duì)；以及

檢測部，檢測透過了所述反射膜的光的光量，

所述反射膜包括：含有銀Ag、釤Sm以及銅Cu的Ag-Sm-Cu合金膜，

按原子數(shù)計(jì)，所述Ag-Sm-Cu合金膜含有0.1％以上0.5％以下的Sm，含有0.1％以上0.5％以下的Cu，且Sm以及Cu的合計(jì)為1.0％以下，

所述Ag-Sm-Cu合金膜的厚度為10nm以上且小于30nm，

所述反射膜為所述Ag-Sm-Cu合金膜的單層膜。

4.一種光學(xué)模塊，其特征在于，所述光學(xué)模塊具備：

兩個(gè)反射膜，隔著間隙相互面對(duì)；以及

檢測部，檢測透過了所述反射膜的光的光量，

其中，所述反射膜包括：含有銀Ag、鉍Bi以及釹Nd的Ag-Bi-Nd合金膜，

按原子數(shù)計(jì)，所述Ag-Bi-Nd合金膜含有0.1％以上3.0％以下的Bi，且含有0.1％以上5.0％以下的Nd，

所述Ag-Bi-Nd合金膜的厚度為10nm以上且小于30nm，

所述反射膜為所述Ag-Bi-Nd合金膜的單層膜。

5.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備具有：

兩個(gè)反射膜，隔著間隙相互面對(duì)；

檢測部，檢測透過了所述反射膜的光的光量；以及

處理部，基于在所述檢測部檢測到的光的光量，實(shí)施分析處理，

其中，所述反射膜包括：含有銀Ag、釤Sm以及銅Cu的Ag-Sm-Cu合金膜，

按原子數(shù)計(jì)，所述Ag-Sm-Cu合金膜含有0.1％以上0.5％以下的Sm，含有0.1％以上0.5％以下的Cu，且Sm以及Cu的合計(jì)為1.0％以下，

所述Ag-Sm-Cu合金膜的厚度為10nm以上且小于30nm，

所述反射膜為所述Ag-Sm-Cu合金膜的單層膜。

6.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備具有：

兩個(gè)反射膜，隔著間隙相互面對(duì)；

檢測部，檢測透過了所述反射膜的光的光量；以及

處理部，基于在所述檢測部檢測到的光的光量，實(shí)施分析處理，

其中，所述反射膜包括：含有銀Ag、鉍Bi以及釹Nd的Ag-Bi-Nd合金膜，

按原子數(shù)計(jì)，所述Ag-Bi-Nd合金膜含有0.1％以上3.0％以下的Bi，且含有0.1％以上5.0％以下的Nd，

所述Ag-Bi-Nd合金膜的厚度為10nm以上且小于30nm，

所述反射膜為所述Ag-Bi-Nd合金膜的單層膜。