[發明專利]一種包含納米SiO2粒子的氣體分離雜化膜制備方法無效
| 申請號： | 201310012101.6 | 申請日： | 2013-01-11 |
| 公開（公告）號： | CN103055727A | 公開（公告）日： | 2013-04-24 |
| 發明（設計）人： | 吳禮光;王健;王挺 | 申請（專利權）人： | 浙江工商大學 |
| 主分類號： | B01D71/78 | 分類號： | B01D71/78;B01D69/10;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 310018 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 包含 納米 sio sub 粒子 氣體 分離 雜化膜 制備 方法 | ||
1.一種包含納米SiO2粒子的氣體分離雜化膜制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
(a)?將聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯兩親嵌段共聚物溶解于油相介質中，超聲條件下加入氨水溶液制得反相微乳液A；
(b)?超聲條件下將硅源加入到微乳液A中，通過硅酸酯的水解反應得到包含納米SiO2的反相微乳液B；
(c)?將引發劑偶氮二異丁腈加入反相微乳液B中，在60℃的水浴中攪拌使其發生微乳液聚合反應；當微乳液聚合體系粘度達到50mPa.s后停止加熱和攪拌，靜止脫泡，獲得乳膠狀的鑄膜液；
(d)?室溫條件下將鑄膜液均勻的涂覆在多孔支撐膜上，然后將其放入75℃的干燥箱中繼續反應，干燥，制得厚度為5-20微米的包含有納米SiO2粒子的雜化膜。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述的聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯兩親嵌段共聚物為商品牌號Pluronic的嵌段共聚物，平均分子量為1000-15000。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述的油相介質為苯乙烯與丙烯酰胺或苯乙烯與甲基丙烯酸二甲氨基乙酯的混合物。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述的硅源為正硅酸乙酯、正硅酸丁酯中的一種。
5.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟(a)，反相微乳液A中聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯兩親嵌段共聚物與油相介質的質量體積比為50-500g/L；氨與油相介質的質量體積比為5×10-4-5×10-2g/L；水與油相介質的質量體積比為10-4-10-2?g/L。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟(b)，反相微乳液B中硅源與油相介質的質量體積比為20-200g/L。
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