[發明專利]反射膜及應用其的背光源無效
| 申請號： | 201310011746.8 | 申請日： | 2013-01-11 |
| 公開（公告）號： | CN103062708A | 公開（公告）日： | 2013-04-24 |
| 發明（設計）人： | 桑建;孫海威 | 申請（專利權）人： | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | F21V7/00 | 分類號： | F21V7/00;F21V15/00 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 應用 背光源 | ||
【權利要求書】：
1.一種反射膜，依次包括第一保護層、反射層及第二保護層，其特征在于，所述第一保護層的上表面具有凹陷結構。
2.根據權利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述凹陷結構為凹槽。
3.根據權利要求2所述的反射膜，其特征在于，所述凹槽的縱向內表面為圓弧形。
4.根據權利要求2所述的反射膜，其特征在于，所述凹槽的個數為多個。
5.根據權利要求1-4任一項所述的反射膜，其特征在于，所述凹槽的高度為20微米至25微米；所述凹槽的開口寬度為40微米至60微米。
6.根據權利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述凹陷結構為凹坑。
7.根據權利要求6所述的反射膜，其特征在于，所述凹坑的內表面為圓弧面。
8.根據權利要求7所述的反射膜，其特征在于，所述凹坑的個數為多個。
9.根據權利要求6-8任一項所述的反射膜，其特征在于，所述凹坑的高度為20微米至25微米；所述凹坑開口的直徑為40微米至60微米。
10.一種背光源，包括導光板，其特征在于，還包括權利要求1-9任一項所述的反射膜，其中所述第一保護層靠近所述導光板下表面設置。
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