[發明專利]一種雙柵自旋場效應晶體管無效
| 申請號: | 201310010499.X | 申請日: | 2013-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN103077965A | 公開(公告)日: | 2013-05-01 |
| 發明(設計)人: | 王偉;張華鑫;王燕 | 申請(專利權)人: | 南京郵電大學 |
| 主分類號: | H01L29/66 | 分類號: | H01L29/66;H01L29/10 |
| 代理公司: | 江蘇愛信律師事務所 32241 | 代理人: | 唐小紅 |
| 地址: | 210003 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 自旋 場效應 晶體管 | ||
技術領域
本發明涉及納米自旋場效應管領域,尤其是對彈道輸運、散射輸運時器件的性能的對比。?
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背景技術
電子除了攜帶電荷之外,?還有另一個重要內稟屬性:?自旋。但長期以來,僅僅利用了電子的電荷這一稟性,?自旋這個重要屬性卻常常被忽略。自旋這一新的自由度的加入,豐富了研究內容,為大量新型量子器件的誕生提供了新的源泉。?
電子的自旋通常有兩種取向:自旋向上和自旋向下。在傳統的金屬電子學中,因為在非磁性的金屬中,自旋向上和自旋向下的電子數是相等的,此時自旋極化率為0,被稱為電子自旋簡并,所以不存在凈磁矩,因此無法利用自旋來實現各種功能,正是由于這個原因,電子的自旋屬性被長期忽略,導致在大多數應用中沒有被加以應用。而在磁性的金屬中,由于存在交換作用,不同的自旋取向的兩個子帶產生一定的相對位移,即交換劈裂,因此此時的自旋極化率不再為0。因為半金屬鐵磁(HMF)的自旋極化率很高,所以HMF常常被作為自旋注入的材料。?
1990年Datta和Das?首次提出了利用電子自旋特性的新型電子器件——自旋場效應晶體管(spinFET),Datta和Das提出的spinFET是一個分水嶺,是第一次利用自旋這個自由度以容易處理的方法來處理信息。從此人們開始對自旋電子器件給予廣泛的關注。其基本結構是由一個電子自旋的高遷移率晶體管組成,它主要是準一維體系下研究電子的自旋輸運。兩端分別為源極和漏極,源極和漏極是由鐵磁材料構成,分別作為spinFET的自旋極化端和檢測段。源極與漏極之間是一個由門電壓控制的狹窄的半導體溝道。自旋極化電子由源極進入半導體的入射方向與傳輸的方向是平行的,電子在通過溝道時,其自旋極化方向在運動的過程中是不斷變化的,因此由于柵壓的作用,電子到達漏極時自旋的方向有可能已經發生了翻轉或者進動。柵壓會產生一個磁場,這個磁場是由Rashba?自旋軌道相互作用產生的,它的方向與外加電場的方向以及電子運動的方向都垂直,通過調節外加柵壓可以控制Rashba?自旋軌道耦合的強度α,進而可以控制電子在溝道里進動的角度,電子最終以一定的概率進入漏極(取決于進動的角度),因此通過改變柵壓的方法可以調節源極到漏極間自旋電流的大小。由Datta和Das所提出的spinFET的原理可以看出,要想實現spinFET首先需要自旋的有效注入和探測。Datta和Das提出的這個模型要求的條件比較苛刻,比如:較長的自旋馳豫時間、較高的鐵磁體到半導體的自旋注入效率以及門電壓控制的Rashba自旋軌道耦合強度等[S.?Datta,?B.?Das?.Electronic?analog?of?the?electro-optic?modulator[J].?Appl.?Phys.?Lett,?1990;?56:?665-667.]。后來提出的很多自旋晶體管都是在此基礎上產生的。?
英國劍橋大學的J?rg?Wunderlich和美國得克薩斯A&M大學物理學家的Jairo?Sinova等人研制出了首個能在高溫條件下工作的spinFET,這個突破必將為整個半導體納米電子學帶來新氣象[J?rg?Wunderlich,?Byong-Guk?Park,?Jairo?Sinova,?etal.?Spin?Hall?effect?transistor[J].?Science?,?2010;?330?(6012):?1801-1804.]。?
電子具有波粒二象性,當在量子力學的范疇里,電子可以被看作一個波。在彈道輸運里,左右電極看作理想的吸收器,從兩極注入的電子不會再返回器件里,而且滿足相位相干的條件。在散射輸運里,由于散射的作用,電子的波函數不再相位相干,此時非平衡格林函數的方法常常被用于此計算。?
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發明內容
技術問題:?本發明提出了一種雙柵的自旋場效應晶體管結構。由于目前國內外對spinFET的仿真還處于起步階段,且目前很少有文獻涉及這類場效應管電學特性的研究,為揭示納米尺度該類器件的量子輸運特性,本發明在非平衡格林函數(NEGF)框架下,對該器件的電學特性進行了數值模擬,分別在彈道輸運和散射輸運去情況下計算它們能級分布、I-V特性、磁阻比率等電學特性,并把散射輸運和彈道輸運的電學特性進行了比較分析。本發明對揭示該spinFET的輸運物理機制、改善spinFET器件結構性能提供理論依據。?
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