[發(fā)明專利]圖像處理方法及圖像處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310010091.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103927729A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張麗;陳志強(qiáng);郝佳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T5/50 | 分類號(hào): | G06T5/50 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 100084*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 處理 方法 裝置 | ||
1.一種圖像處理方法,包括步驟:
從結(jié)構(gòu)匹配的多幅圖像中選擇一幅圖像作為參考圖像,選擇另一幅作為待處理圖像;
針對(duì)所述待處理圖像中的待處理像素,在所述參考圖像中確定與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素;
計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素和與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素之間的相似度值;
基于所述相似度值構(gòu)建權(quán)重系數(shù),對(duì)所述待處理圖像中相應(yīng)的待處理像素進(jìn)行加權(quán)平均,得到處理后的像素值。
2.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素和與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素之間的相似度值的步驟包括:
計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素中的各個(gè)像素所在的圖像塊和與所述待處理像素所在的圖像塊相對(duì)應(yīng)的圖像塊之間的高斯加權(quán)歐氏距離,作為所述相似度值。
3.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素和與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素之間的相似度值的步驟包括:
計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素中的各個(gè)像素所在的圖像塊和與所述待處理像素所在的圖像塊相對(duì)應(yīng)的圖像塊之間的結(jié)構(gòu)相似指數(shù),作為所述相似度值。
4.如權(quán)利要求2或3所述的圖像處理方法,其中,如果所述參考圖像中某像素所在的圖像塊中的像素平均值與待處理像素所在的圖像塊中的像素平均值相差大于預(yù)定的閾值,則不計(jì)算二者之間的相似度值。
5.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中,在所述待處理圖像中選擇包含待處理像素的特定區(qū)域,所述計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素和與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素之間的相似度值的步驟包括:
計(jì)算所述參考圖像的相應(yīng)特定區(qū)域中的各個(gè)像素所在的圖像塊和與所述待處理像素所在的圖像塊相對(duì)應(yīng)的圖像塊之間的高斯加權(quán)歐氏距離,作為所述相似度值。
6.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中,在所述待處理圖像中選擇包含待處理像素的特定區(qū)域,所述計(jì)算所述參考圖像的至少部分像素和與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素之間的相似度值的步驟包括:
計(jì)算所述參考圖像的相應(yīng)特定區(qū)域中的各個(gè)像素所在的圖像塊和與所述待處理像素所在的圖像塊相對(duì)應(yīng)的圖像塊之間的結(jié)構(gòu)相似指數(shù),作為所述相似度值。
7.如權(quán)利要求5或6所述的圖像處理方法,其中,如果所述參考圖像的相應(yīng)特定區(qū)域中某像素所在的圖像塊中的像素平均值與待處理像素所在的圖像塊中的像素平均值相差大于預(yù)定的閾值,則不計(jì)算二者之間的相似度值。
8.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中,在所述參考圖像中確定與所述待處理像素相對(duì)應(yīng)的像素的步驟包括:基于所述待處理圖像中的所述待處理像素的位置信息來確定所述參考圖像中的相應(yīng)像素。
9.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中所述參考圖像的圖像質(zhì)量高于所述待處理圖像的圖像質(zhì)量,所述圖像質(zhì)量是信噪比、銳度、對(duì)比度、分辨率、和清晰度之一。
10.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中所述參考圖像是利用雙能CT成像系統(tǒng)獲得的高能或低能衰減系數(shù)圖像,所述待處理圖像是原子序數(shù)圖像或電子密度圖像。
11.如權(quán)利要求10所述的圖像處理方法,利用高能或低能衰減圖像來校正電子密度圖像或原子序數(shù)圖像中的金屬偽影。
12.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中所述參考圖像是全采樣圖像,所述待處理圖像是稀疏采樣圖像。
13.如權(quán)利要求12所述的圖像處理方法,其中利用全采樣圖像來校正所述稀疏采樣圖像中的混疊偽影。
14.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中,相似度值高的像素所對(duì)應(yīng)的權(quán)重大,相似度值低的像素所對(duì)應(yīng)的權(quán)重小。
15.如權(quán)利要求1所述的圖像處理方法,其中所述參考圖像是CT圖像,所述待處理圖像是PET或SPECT模態(tài)所得到的圖像。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司,未經(jīng)清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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