[發(fā)明專利]導(dǎo)電薄膜、其制備方法及應(yīng)用無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310008603.1 | 申請日: | 2013-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN103924194A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周明杰;王平;陳吉星;黃輝 | 申請(專利權(quán))人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/06;H05B33/10;H01L51/56 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電 薄膜 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種導(dǎo)電薄膜,其特征在于,所述導(dǎo)電薄膜包括層疊的銀層及三氧化鎢層,其中,所述銀層及三氧化鎢層為納米線結(jié)構(gòu),所述銀層的納米線直徑為50nm~500nm,所述三氧化鎢層的納米線直徑為8nm~80nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜,其特征在于,所述銀層的厚度為30nm~400nm,所述三氧化鎢層的厚度為6nm~70nm。
3.一種導(dǎo)電薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將襯底通過酸處理,接著用丙酮和乙醇超聲清洗,烘干后將所述襯底放入管式爐的石英管中;
設(shè)置管式爐的石英管的真空度為102Pa~103Pa,溫度為350℃~700℃,然后向管式爐的石英管中通入惰性氣體,所述惰性氣體的流速為50cm3/min~180cm3/min;
先將銀粉放置在舟中,將所述舟放置在管式爐的石英管中;所述銀粉的蒸發(fā)時間為10分鐘~40分鐘,在所述襯底表面形成銀層,停止蒸鍍所述銀層;
然后將三氧化鎢粉放置在舟中,將所述舟放置在管式爐的石英管中;三氧化鎢粉的蒸發(fā)時間為3分鐘~20分鐘,在所述銀層表面形成所述三氧化鎢層,停止蒸鍍所述三氧化鎢層,繼續(xù)通入惰性氣體冷卻到室溫;及
剝離所述襯底,得到所述層疊的銀層及三氧化鎢層導(dǎo)電薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的導(dǎo)電薄膜的制備方法,其特征在于,所述銀層及三氧化鎢層為納米線結(jié)構(gòu),所述銀層的納米線直徑為50nm~500nm,三氧化鎢層的納米線直徑為8nm~80nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的導(dǎo)電薄膜的制備方法,其特征在于,所述銀層的厚度為30nm~400nm,所述三氧化鎢層的厚度為6nm~70nm。
6.一種有機(jī)電致發(fā)光器件的基板,其特征在于,包括依次層疊的襯底、銀層及三氧化鎢層,其中,所述銀層及三氧化鎢層為納米線結(jié)構(gòu),所述銀層的納米線直徑為50nm~500nm,三氧化鎢層的納米線直徑為8nm~80nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的基板,其特征在于,所述銀層的厚度為30nm~400nm,所述三氧化鎢層的厚度為6nm~70nm。
8.一種有機(jī)電致發(fā)光器件的基板的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將襯底通過酸處理,然后用丙酮和乙醇超聲清洗,烘干后將所述襯底放入管式爐的石英管中;
設(shè)置管式爐的石英管的真空度為102Pa~103Pa,溫度為350℃~700℃,然后向管式爐的石英管中通入惰性氣體,所述惰性氣體的流速為50cm3/min~180cm3/min;
先將銀粉放置在舟中,將所述舟放置在管式爐的石英管中;所述銀粉的蒸發(fā)時間為10分鐘~40分鐘,在所述襯底表面形成銀層,停止蒸鍍所述銀層;
然后將三氧化鎢粉放置在舟中,將所述舟放置在管式爐的石英管中;三氧化鎢粉的蒸發(fā)時間為3分鐘~20分鐘,在所述銀層表面形成所述三氧化鎢層,停止蒸鍍所述三氧化鎢層,繼續(xù)通入惰性氣體冷卻到室溫。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的基板的制備方法,其特征在于,所述銀層及三氧化鎢層為納米線結(jié)構(gòu),所述銀層的納米線直徑為50nm~500nm,三氧化鎢層的納米線直徑為8nm~80nm,所述銀層的厚度為30nm~400nm,所述三氧化鎢層的厚度為6nm~70nm。
10.一種有機(jī)電致發(fā)光器件,包括依次層疊的陽極、發(fā)光層以及陰極,其特征在于,所述陽極包括依次層疊的襯底、銀層及三氧化鎢層,其中,所述銀層及三氧化鎢層為納米線結(jié)構(gòu),所述銀層的納米線直徑為50nm~500nm,三氧化鎢層的納米線直徑為8nm~80nm。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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