[發(fā)明專利]渦輪噴嘴冷卻組件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310007262.6
• 申請日: 2013-01-09
• 公開（公告）號: CN103233784A
• 公開（公告）日: 2013-08-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: A.G.溫;R.W.夸恩;J.S.菲利普斯;T.R.蒂普頓;G.T.福斯特;R.米納克施森達(dá)拉姆;N.G.派
• 申請（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號: F01D9/02
• 分類號: F01D9/02;F01D25/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;譚祐祥

1.?一種噴嘴內(nèi)部平臺，包括：

平臺腔；

位于所述平臺腔內(nèi)的沖擊室；

位于所述沖擊室的第一側(cè)上的保持板；和

位于所述沖擊室的第二側(cè)上的順應(yīng)性密封件。

2.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述保持板包括密封件托架。

3.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述平臺腔包括一個或更多個平臺鉤，并且所述保持板包括一個或更多個板鉤，使得所述保持板保持于所述平臺腔中。

4.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述保持板包括柱形輪廓，使得所述保持板保持于所述平臺腔中。

5.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，還包括一個或更多個銷，其延伸入所述平臺腔內(nèi)，使得所述保持板保持于所述平臺腔中。

6.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述順應(yīng)性密封件包括順應(yīng)性密封件襯墊。

7.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述平臺腔包括保持支架，其位于所述順應(yīng)性密封件的附近。

8.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，還包括斜面，并且其中，所述斜面包括在其上的一個密封件或多個密封件。

9.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述沖擊室包括與空氣流連通的冷卻導(dǎo)管。

10.?如權(quán)利要求1所述的噴嘴內(nèi)部平臺，其特征在于，所述沖擊室包括多個孔，其位于噴嘴平臺的附近。

11.?一種噴嘴靜葉，包括：

內(nèi)部平臺；

位于所述內(nèi)部平臺內(nèi)的沖擊冷卻組件；

位于所述沖擊冷卻組件的第一側(cè)上的保持板；和

位于所述沖擊冷卻組件的第二側(cè)上的順應(yīng)性密封件。

12.?如權(quán)利要求11所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述沖擊冷卻組件包括沖擊室和冷卻導(dǎo)管。

13.?如權(quán)利要求11所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述保持板包括密封件托架。

14.?如權(quán)利要求11所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述內(nèi)部平臺包括平臺腔，所述沖擊冷卻組件位于所述平臺腔中。

15.?如權(quán)利要求14所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述平臺腔包括一個或更多個平臺鉤，并且所述保持板包括一個或更多個板鉤，使得所述保持板保持于所述平臺腔中。

16.?如權(quán)利要求14所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述保持板包括柱形輪廓，使得所述保持板保持于所述平臺腔中。

17.?如權(quán)利要求14所述的噴嘴靜葉，其特征在于，還包括一個或更多個銷，其延伸入所述平臺腔內(nèi)，使得所述保持板保持于所述平臺腔中。

18.?一種噴嘴靜葉，包括：

內(nèi)部平臺；

位于所述內(nèi)部平臺內(nèi)的沖擊冷卻組件；

位于所述沖擊冷卻組件的第一側(cè)上的密封件托架；和

位于所述沖擊冷卻組件的第二側(cè)上的順應(yīng)性密封件襯墊。

19.?如權(quán)利要求18所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述內(nèi)部平臺包括斜面，并且其中，所述斜面包括在其上的多個密封件。

20.?如權(quán)利要求19所述的噴嘴靜葉，其特征在于，所述斜面包括壓力腔，其由所述多個密封件形成，并且從所述沖擊冷卻組件進(jìn)行供給。