[發明專利]一種聚合物漫反射材料的配方及制備方法無效
| 申請號: | 201310006490.1 | 申請日: | 2013-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN103102668A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發明(設計)人: | 吳大鳴;劉穎;鄭秀婷;計紅艷;許紅;趙中里;陳加山;何慧華;王偉 | 申請(專利權)人: | 北京化工大學;濟源市藍曼節能科技有限公司 |
| 主分類號: | C08L69/00 | 分類號: | C08L69/00;C08L23/12;C08L67/02;C08L55/02;C08L51/00;C08L33/12;C08K13/02;C08K3/22;C08K5/353;B29C47/92 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 聚合物 漫反射 材料 配方 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及光學材料領域,尤其涉及一種應用于照明裝置的漫反射材料的配方及其生產制備方法。
背景技術
隨著科學技術的進步,生活水平的提高,人們對環境的舒適要求也越來越高,目前應用較多的反射材料多為鋁、銅、鎳、鉻等金屬材料或塑料表面鍍金屬材料,在這種情況下,如果光源是點光源,這種反射材料形成鏡面反射,容易產生眩光、光照不均勻等問題。而且金屬材料的氧化也會使其反射效率下降。一般照明反射材料的設計僅僅是利用表層帶有光澤的金屬(如薄鋁、或不銹鋼),或涂上具有反射能力的化學物質(如氧化鋁等物質),作為光源反射器之用。但是,任何金屬或涂上化學物質的反射器一旦與空氣接觸日久后,均會氧化變質或被空氣中的酸、堿等化學物質腐蝕,或因溫度及氧化而剝落,喪失反射能力。美國專利4104102號對反光膜生產有詳細說明,其采用聚集層復合工藝,但其在大規模生產中很難實現,且成品率低;中國專利CN201020032939.3號采用堆疊方法復合而成的層狀結構的反光材料,其制備工藝復雜,專利CN201010151111.4?號先將反光材料涂覆在基體上,然后再在反光材料上涂覆紫外吸收劑,制備過程包括多層涂覆工藝,很難高效率連續生產。
?現有對反光材料的研究和應用大多集中在液晶顯示器及工程標識領域方面,面對照明領域的漫反射材料的研究則很少。由此可見,在照明領域急需對反射材料,漫反射材料及制備方法的研究。
為此需研究新型反射材料提高高強度點光源的反射效率和漫反射效果,本發明正是基于上述背景提出,本發明可用于LED照明及對漫反射要求較高的照明場合,可以推廣LED在照明領域的應用。本發明將高分子材料的加工與微納制造相結合,從材料本身以及材料表面的微結構制作工藝出發,提出了通過將反射材料與微結構光學設計相結合實現良好的漫反射效果。
發明內容
本發明所要解決的技術問題在于提供一種漫反射效果良好的反光材料配方及其生產制備方法。
為解決上述問題,本發明提供一種聚合物漫反射材料,其特征在于,所述漫反射材料的組分及重量配比為:
聚合物PC?85-97份
鈦白粉3-15份?,?
抗氧劑0.1-0.5份、
光穩定劑0.5-2份,
熒光增白劑0.01-0.05份,
分散劑0.5-5份;
所述的鈦白粉為微米級或納米級,所述的抗氧劑為受阻酚類抗氧劑和輔助抗氧劑;所述的熒光增白劑為噁唑類熒光增白劑,所述分散劑為石蠟、高分子蠟或硬脂酸皂;所述的聚合物為聚丙烯PP、聚對苯二甲酸乙二醇酯PET、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物ABS、耐沖擊聚苯乙烯HIPS、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或聚碳酸酯PC。
所述的一種聚合物漫反射材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)制備漫反射板專用料或者預混料
將聚合物?85-97份、鈦白粉3-15份?,?抗氧劑0.1-0.5份、光穩定劑0.5-2份,熒光增白劑0.01-0.05份,分散劑0.5-5份,在攪拌機中混合均勻后,加入雙螺桿擠出機中,熔融混合制得專用料,或者先將鈦白粉、抗氧劑、光穩定劑、熒光增白劑、分散劑與部分聚合物加入雙螺桿擠出機中先制備預混料,雙螺桿擠出機的溫度為:一區溫度:165-230℃、二區溫度:170-240℃、三區溫度:175-250℃、四區溫度:180-250℃、五區溫度:180-250℃,六區溫度:180-260℃,七區溫度:185-270℃,八區溫度:185-270℃,九區溫度:185-285℃,十區溫度:185-285℃;雙螺桿轉速為100-400r/min;
2)制備漫反射板
將所制備的專用料或剩余聚合物與上述預混料的混合物加入單螺桿擠出機的料斗,擠出溫度為一區溫度:165-265℃,二區溫度:180-280℃,三區溫度:190-290℃,機頭溫度為185-295℃;螺桿轉速為10-70r/min;壓印滾的溫度設定為30-150℃,牽引速度為2-10m/min;利用單螺桿擠出成型制造聚合物片材,讓其直接進入滾輪微壓印設備,把滾輪上的微結構轉印至聚合物片材表面上。
上述漫反射材料的配方及制備方法與現有的反射材料制備方法相比,工藝簡單,可以連續生產,而且所制備的反射材料最高反射率達到102%,其中漫反射為96%。
壓印滾筒可以為兩個或三個,當三個滾筒時,微結構滾筒在中間。
附圖說明
圖1?漫反射板擠出壓印示意圖。
1電機?2聯軸器?3料斗?4螺桿?5平板機頭??6微印滾輪模具?
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