[發明專利]用于窄線寬準分子激光器的線寬穩定控制裝置

有效

• 申請號: 201310006315.2
• 申請日: 2013-01-08
• 公開（公告）號: CN103078247A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 袁志軍;張海波;周軍;樓祺洪;魏運榮
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: H01S3/136
• 分類號: H01S3/136;H01S3/13
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種用于窄線寬準分子激光器的線寬穩定控制裝置，其特征在于：該裝置由分光器(1)、可調狹縫(2)、高精度光譜儀(3)、線寬反饋控制系統(4)組成，上述各部分的位置關系如下：?

準分子激光器由耦合輸出鏡(7)、放電腔(8)、線寬壓窄模塊(9)組成，所述的分光器(1)置于所述的窄線寬準分子激光器的耦合輸出鏡(7)之外，所述的可調狹縫(2)置于所述的窄線寬準分子激光器中，所述的分光器(1)將輸出的激光分為透射的第一光束(5)和反射的第二光束(6)，所述的第一光束(5)作為主要能量輸出，第二光束(6)作為探測光入射到高精度光譜儀(3)，高精度光譜儀(3)實時測量到的激光線寬值由所述的線寬反饋控制系統(4)進行數據處理，根據計算結果相應調節所述的可調狹縫(2)的寬度，從而改變激光的線寬，最終實現激光線寬的穩定控制。?

2.根據權利要求1所述的線寬穩定控制裝置，其特征在于所述的可調狹縫(2)的數量為1或2，將1個可調狹縫(2)置于所述的窄線寬準分子激光器的輸出鏡放電腔(8)與耦合輸出鏡(7)之間，或放電腔(8)與線寬壓窄模塊(9)之間；將2個可調狹縫(2)分別置于所述的放電腔(7)與耦合輸出鏡(8)之間和放電腔(8)與線寬壓窄模塊(9)之間。?

3.根據權利要求1所述的線寬穩定控制裝置，其特征在于所述的可調狹縫寬度在水平方向可調，調節范圍為1毫米~5毫米。?

4.根據權利要求1所述的窄線寬準分子激光器的線寬穩定控制裝置，其特征在于所述的第一光束(5)和第二光束(6)的分光比為：95~80%：5~20%。?

5.根據權利要求1所述的線寬穩定控制裝置，其特征在于所述的高精度光譜儀(3)的光譜分辨率0.01皮米~1皮米。?

6.根據權利要求1至5任一項所述的線寬穩定控制裝置，其特征在于所述的線寬反饋控制系統(4)是一臺計算機，對高精度光譜儀(3)的實測光譜線寬進行數據處理，并根據處理結果顯示相應的線寬值、與目標線寬的差值、可調狹縫(2)的調節量。?