[發(fā)明專利]一種晶體作三維運(yùn)動的溶液中生長晶體的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310005683.5 | 申請日: | 2013-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN103060888A | 公開(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李明偉;曹亞超;周川;尹華偉;程旻;胡志濤;王邦國 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶大學(xué) |
| 主分類號: | C30B7/00 | 分類號: | C30B7/00;C30B28/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 400044 *** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶體 三維 運(yùn)動 溶液 生長 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于晶體生長技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種晶體作三維運(yùn)動的溶液中生長晶體的方法,適用于水溶性晶體的快速高質(zhì)量全方位的生長。
背景技術(shù)
溶液中生長晶體的方法有降溫法、循環(huán)流動法和蒸發(fā)法等。在這些方法中,人們通過讓晶體對溶液作相對運(yùn)動來減薄溶質(zhì)邊界層,以提高晶體生長速度。常用的是轉(zhuǎn)晶法,即晶體在溶液中自轉(zhuǎn)或公轉(zhuǎn),在循環(huán)流動法中,晶體轉(zhuǎn)動的同時(shí),溶液還由育晶器的下部流入,上部流出。轉(zhuǎn)晶法無疑有利于晶體生長速度的提高。
然而,上述轉(zhuǎn)晶法利用對流對溶質(zhì)輸運(yùn)的有利作用,使晶體生長速度得以提高的同時(shí),也存在著如下嚴(yán)重不足:晶面上存在著易形成包裹物的三種區(qū)域:迎著液流的滯止區(qū)、背向液流的對流渦胞區(qū)和側(cè)壁對流邊界層下游區(qū)。這些區(qū)域的存在,大大影響了晶體的質(zhì)量,使晶體生長速度和晶體質(zhì)量未能兼顧。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有生長方法存在的上述不足之處,本發(fā)明提供了一種快速的高質(zhì)量的溶液中生長晶體的方法。該方法能更充分地利用對流增加溶質(zhì)輸運(yùn)的優(yōu)勢,同時(shí)又較好地避免了上述對流的不利影響。
本發(fā)明提供的一種晶體作三維運(yùn)動的溶液中生長晶體的方法,該方法包括溶液配制、溶液過濾、溶液過熱、籽晶固定、晶體三維運(yùn)動生長五個(gè)工藝步驟,具體步驟如下:
1)溶液配制:根據(jù)溶解度公式,計(jì)算配制V升溫度為t攝氏度的飽和溶液所需原料量,稱取該量的優(yōu)級純原料,加入到量取的V升二次蒸餾水中,配制得到該溫度下的飽和溶液;
2)溶液過濾:先后用濾紙和微孔濾膜過濾溶液,得純清溶液;
3)溶液過熱:對純清溶液在飽和溫度以上20攝氏度恒溫過熱24小時(shí)以上,制得生長溶液;
4)籽晶固定:用膠將籽晶粘貼到掣晶桿頂端;
5)晶體三維運(yùn)動生長:將裝好生長溶液的育晶器置于恒溫水浴中,恒定于過熱溫度;將籽晶和掣晶桿緩慢加熱到過熱溫度,然后引入到育晶器中,密封,保持溶液于過熱溫度一定時(shí)間,使籽晶微溶以消除表面微晶;然后按設(shè)定程序降溫與控溫,完成籽晶的再生過程;之后按生長期間的降溫程序降溫,使生長過程中溶液過飽和度維持恒定;晶體生長期間,靠掣晶桿帶動按如下方式周期性地作三維運(yùn)動:由左向右,由下向上,由外往里,由右向左,由上向下,由里往外;周期性三維運(yùn)動的晶體只平動無轉(zhuǎn)動;掣晶桿帶動晶體在溶液中運(yùn)動的速度、距離和方向均可調(diào)節(jié)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的一種晶體作三維運(yùn)動的溶液中生長晶體的方法,具有以下優(yōu)點(diǎn):
1、相對于溶液的運(yùn)動,晶體每一個(gè)面在一個(gè)周期內(nèi)都分別經(jīng)歷了作為迎面、側(cè)面和背面的相對運(yùn)動,從而避免了現(xiàn)有方法中有些晶面始終只作為某一種面的運(yùn)動。該運(yùn)動方式消除了上述包裹物易形成的三種區(qū)域,能保持晶體表面大而且較為均勻的過飽和度,使晶體生長速度和晶體質(zhì)量得以兼顧。
2、晶體能實(shí)現(xiàn)全方位生長。
附圖說明
圖1?為本發(fā)明使用的晶體生長裝置示意圖。
圖2?為本發(fā)明涉及的晶體作三維運(yùn)動軌跡圖。
圖3?為本發(fā)明涉及的籽晶粘貼和生長晶體切割使用原理圖。????
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖通過實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
實(shí)施例:
本實(shí)施例以KDP晶體生長為例,包括溶液配制、溶液過濾、溶液過熱、籽晶固定、晶體三維運(yùn)動生長五個(gè)工藝步驟,具體步驟是:
1)溶液配制:根據(jù)溶解度公式St=13.76+0.359t+0.0041t2?(式中St的單位為gKDP/100mL水,t的單位為℃)計(jì)算,配制55℃下的10?L飽和溶液所需原料為4.59kg,稱取該量的優(yōu)級純原料,加入到量取的10?L二次蒸餾水中,配制獲得10?L的飽和溶液;
2)溶液過濾:先后用孔徑為0.45μm的濾紙和0.22μm的濾膜過濾溶液,得純清液;
3)溶液過熱:將純清液在飽和溫度以上20℃,即在75℃恒溫過熱24小時(shí),得生長溶液;
4)籽晶固定:用環(huán)氧膠將籽晶3的一個(gè)錐面水平粘貼到掣晶桿5頂端;
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