[發明專利]監控裝置、監控方法及氣相沉積設備

無效

• 申請號: 201310002986.1
• 申請日: 2013-01-05
• 公開（公告）號: CN103911603A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 喬徽;寧海濤
• 申請（專利權）人: 光達光電設備科技（嘉興）有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;馬翠平

1.一種監控裝置，用于在氣相沉積工藝過程中對加熱單元或被加熱單元進行溫度監控，其特征在于，所述加熱單元或被加熱單元包括若干個監控區域，所述監控裝置包括：

溫度探測單元，用于獲得所述監控區域的探測溫度；

溫度比較單元，用于比較任意兩個所述監控區域的探測溫度得到溫度差值，并將所述溫度差值與預設的安全溫度值比較得到比較結果；

報警單元，用于根據所述溫度差值與所述安全溫度值得到的所述比較結果，判斷是否發出報警信號。

2.根據權利要求1所述的監控裝置，其特征在于，當所述溫度差值大于等于所述安全溫度值時，所述報警單元發出報警信號。

3.根據權利要求1或2所述的監控裝置，其特征在于，所述安全溫度值為30～70攝氏度之間的任一值。

4.根據權利要求1或2所述的監控裝置，其特征在于，所述加熱單元包括若干個子加熱單元，所述若干個子加熱單元分別對應加熱所述若干個監控區域，所述若干個子加熱單元的加熱功率相互獨立調節。

5.根據權利要求1所述的監控裝置，其特征在于，在每個所述監控區域中，所述溫度探測單元探測每個所述監控區域中的一個點的溫度得到所述探測溫度，或探測每個所述監控區域中的多個點的溫度，取所述多個點的溫度的平均溫度得到所述探測溫度。

6.根據權利要求1或5所述的監控裝置，其特征在于，所述溫度探測單元包括置于所述加熱單元或被加熱單元的下方的若干個熱電偶，用于對應直接接觸所述若干個監控區域并分別得到所述若干個監控區域的所述探測溫度。

7.根據權利要求1或5所述的監控裝置，其特征在于，所述溫度探測單元包括若干個光譜分析裝置，用于對應探測分析所述若干個監控區域的熱輻射信號并分別得到所述若干個監控區域的所述探測溫度。

8.一種氣相沉積設備，包括工藝腔室，所述工藝腔室具有被加熱單元和加熱單元，所述加熱單元分別對應置于所述被加熱單元下方，在進行氣相沉積工藝時，所述加熱單元對應加熱所述被加熱單元，其特征在于，所述工藝腔室還包括權利要求1至7任一項所述的監控裝置，所述監控裝置對所述加熱單元或所述被加熱單元進行溫度監控。

9.根據權利要求8所述的氣相沉積設備，其特征在于，所述加熱單元為所述氣相沉積設備的加熱單元，所述被加熱單元為托盤，所述監控裝置對所述加熱單元或所述托盤進行溫度監控。

10.一種在氣相沉積工藝過程中監控加熱單元或被加熱單元溫度的監控方法，其特征在于，包括步驟：

a)將所述加熱單元或所述被加熱單元劃分為若干個監控區域；

b)探測所述若干個監控區域的溫度并獲得各個所述監控區域的探測溫度；

c)比較任意兩個所述監控區域的探測溫度并得到溫度差值；

d)比較所述溫度差值與預設的安全溫度值并得到比較結果；

e)根據所述溫度差值與預設安全溫度值得到的比較結果，判斷是否發出報警信號。

11.根據權利要求10所述的監控方法，其特征在于，當所述溫度差值大于等于所述安全溫度值時，所述報警單元發出報警信號。

12.根據權利要求10或11所述的監控方法，其特征在于，將所述預設的安全溫度值設為30～70攝氏度之間的任一值。

13.根據權利要求10或11所述的監控方法，其特征在于，所述加熱單元包括若干個子加熱單元，所述若干個子加熱單元分別對應加熱所述若干個監控區域，所述若干個子加熱單元的加熱功率相互獨立調節。

14.根據權利要求10所述的監控方法，其特征在于，在每個所述監控區域中，探測每個所述監控區域中的一個點的溫度得到所述探測溫度，或探測每個監控區域中的多個點的溫度，取所述多個點的溫度的平均溫度得到所述探測溫度。

15.根據權利要求10或14所述的監控方法，其特征在于，通過若干個熱電偶對應直接接觸所述若干個監控區域并分別得到所述若干個監控區域的所述探測溫度。

16.根據權利要求10或14所述的監控方法，其特征在于，通過若干個光譜分析裝置對應探測分析所述若干個監控區域的熱輻射信號并分別得到所述若干個監控區域的所述探測溫度。