[發(fā)明專利]一種紅外光源及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310002634.6 | 申請日： | 2013-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN103107483A | 公開（公告）日： | 2013-05-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 馮國進(jìn) | 申請（專利權(quán)）人： | 中國計量科學(xué)研究院 |
| 主分類號： | H01S5/20 | 分類號： | H01S5/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人： | 王瑩 |
| 地址： | 100013 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 紅外 光源 及其 制造 方法 | ||
1.本發(fā)明的紅外光源，包括紅外光輻射源和導(dǎo)電單元，導(dǎo)電單元與紅外光輻射源電連接，所述導(dǎo)電單元接入電源以加熱紅外光輻射源，其特征在于，所述紅外光輻射源為飛秒激光微構(gòu)造硅。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外光源，其特征在于，所述飛秒激光微構(gòu)造硅具有微小山峰的微結(jié)構(gòu)的表面上設(shè)置有鍍膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紅外光源，其特征在于，所述鍍膜層包含鉻、金。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的紅外光源，其特征在于，所述鍍膜層表面含氧。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外光源，其特征在于，控制所述導(dǎo)電單元通過的電流強弱可以控制所述紅外光源輸出紅外輻射的強弱。
6.一種如權(quán)利要求1所述的紅外光源的制造方法，具體為：在飛秒激光微構(gòu)造硅上設(shè)置所述導(dǎo)電單元。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造方法，其特征在于，飛秒激光微構(gòu)造硅具有微小山峰的微結(jié)構(gòu)的表面上鍍制有鍍膜層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述鍍制鍍膜層的方法包括如下步驟：在所述飛秒激光微構(gòu)造硅具有微小山峰的微結(jié)構(gòu)的表面上先鍍鉻，然后在鍍制的鉻層上再鍍金。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制造方法，其特征在于，在鍍膜層鍍制完成后再對所述鍍膜層進(jìn)行高溫退火。
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