[發明專利]一種紅外光源及其制造方法無效
| 申請號： | 201310002634.6 | 申請日： | 2013-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN103107483A | 公開（公告）日： | 2013-05-15 |
| 發明（設計）人： | 馮國進 | 申請（專利權）人： | 中國計量科學研究院 |
| 主分類號： | H01S5/20 | 分類號： | H01S5/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 王瑩 |
| 地址： | 100013 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 紅外 光源 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.本發明的紅外光源，包括紅外光輻射源和導電單元，導電單元與紅外光輻射源電連接，所述導電單元接入電源以加熱紅外光輻射源，其特征在于，所述紅外光輻射源為飛秒激光微構造硅。
2.根據權利要求1所述的紅外光源，其特征在于，所述飛秒激光微構造硅具有微小山峰的微結構的表面上設置有鍍膜層。
3.根據權利要求2所述的紅外光源，其特征在于，所述鍍膜層包含鉻、金。
4.根據權利要求2或3所述的紅外光源，其特征在于，所述鍍膜層表面含氧。
5.根據權利要求1所述的紅外光源，其特征在于，控制所述導電單元通過的電流強弱可以控制所述紅外光源輸出紅外輻射的強弱。
6.一種如權利要求1所述的紅外光源的制造方法，具體為：在飛秒激光微構造硅上設置所述導電單元。
7.根據權利要求6所述的制造方法，其特征在于，飛秒激光微構造硅具有微小山峰的微結構的表面上鍍制有鍍膜層。
8.根據權利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述鍍制鍍膜層的方法包括如下步驟：在所述飛秒激光微構造硅具有微小山峰的微結構的表面上先鍍鉻，然后在鍍制的鉻層上再鍍金。
9.根據權利要求7或8所述的制造方法，其特征在于，在鍍膜層鍍制完成后再對所述鍍膜層進行高溫退火。
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