[發(fā)明專利]合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚰跋到y(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310001454.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103130670A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃小平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南平博士達(dá)節(jié)能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C07C233/03 | 分類號(hào): | C07C233/03;C07C231/24 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區(qū)博深專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 林志崢 |
| 地址: | 353400 福建省南平市浦*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 合成革 dmf 回收 殘?jiān)?/a> 處理 工藝 系統(tǒng) | ||
1.一種合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚕涮卣髟谟冢核ǎ?/p>
A)、產(chǎn)生負(fù)壓用于DMF殘液干燥的步驟;
B)、對(duì)進(jìn)入的DMF殘液進(jìn)行攪拌并加熱的步驟;
C)、收集DMF殘液受熱蒸發(fā)的氣體,對(duì)其進(jìn)行冷凝,并將冷凝后液體送至DMF回收裝置的步驟;
D)、待DMF殘液蒸發(fā)完畢,停止加熱,對(duì)干渣通水冷卻的步驟;
E)、待干渣冷卻后,進(jìn)行排氣直至與環(huán)境壓力平衡后排除干渣的步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚕涮卣髟谟冢?/p>
所述步驟A中,開啟真空泵裝置于干燥鍋內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓;
所述步驟B中,啟動(dòng)攪拌機(jī)并打開放料閥使DMF殘液進(jìn)入干燥鍋內(nèi),然后打開加熱調(diào)節(jié)閥開始對(duì)干燥鍋加熱;
所述步驟C中,開啟冷凝器水循環(huán)裝置,干燥鍋內(nèi)DMF殘液受熱蒸發(fā)的氣體經(jīng)過冷凝器冷凝成液體后進(jìn)入DMF半成品儲(chǔ)罐,與DMF半成品儲(chǔ)罐內(nèi)設(shè)置的堿中和后的殘液送至DMF回收裝置重新蒸發(fā);
所述步驟D中,待DMF殘液蒸發(fā)完畢后,關(guān)閉加熱調(diào)節(jié)閥停止加熱,開啟冷卻罐進(jìn)水閥門,通過冷卻水將干渣冷卻;
所述步驟E中,待干渣冷卻后,打開放空排氣閥門進(jìn)行排氣,直至干燥鍋內(nèi)外壓力平衡,打開干燥鍋的放渣閘門,把干燥鍋內(nèi)的干渣排出鍋外。
3.如權(quán)利要求1或2所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚕涮卣髟谟冢核霾襟EA中產(chǎn)生負(fù)壓至0.08MPa以下。
4.如權(quán)利要求1或2所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚕涮卣髟谟冢核霾襟EB中加熱至150℃-200℃。
5.如權(quán)利要求1或2所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚕涮卣髟谟冢核霾襟ED中水冷卻采用循環(huán)水冷卻。
6.如權(quán)利要求1或2所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚砉に嚕涮卣髟谟冢核霾襟EE中待干渣冷卻至100℃以下后進(jìn)行排氣。
7.一種合成革DMF回收殘?jiān)幚硐到y(tǒng),其特征在于:它包括真空處理器、真空泵裝置、DMF半成品儲(chǔ)罐、冷凝器、冷卻罐、干燥鍋、攪拌機(jī)、加熱裝置及回收鍋;所述真空處理器連接真空泵裝置,真空泵裝置連接干燥鍋,干燥鍋內(nèi)設(shè)置所述加熱裝置,加熱裝置連接有加熱調(diào)節(jié)閥,所述攪拌機(jī)輸出有攪拌頭伸入干燥鍋內(nèi);所述干燥鍋一路連接所述回收鍋,與兩者間設(shè)置有放料閥,干燥鍋另一路連接冷凝器的一端,冷凝器另一端與DMF半成品罐相連;所述冷卻罐連接干燥鍋,并于兩者間設(shè)置有冷卻罐進(jìn)水閥門;所述干燥鍋上還設(shè)有放空排氣閥門和放渣閘門。
8.如權(quán)利要求7所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚硐到y(tǒng),其特征在于:它還包括DMF回收裝置,DMF回收裝置與DMF半成品罐相連,并于兩者間設(shè)置有半成品罐閥門。
9.如權(quán)利要求7所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚硐到y(tǒng),其特征在于:它還包括冷卻循環(huán)泵,冷卻循環(huán)泵設(shè)置于冷卻罐及干燥鍋之間。
10.如權(quán)利要求7所述的合成革DMF回收殘?jiān)幚硐到y(tǒng),其特征在于:所述真空泵裝置包括至少2個(gè)真空泵,所述真空泵與真空處理器及冷凝器、干燥鍋相連。
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