[發明專利]ALD反應器中的襯底裝載

在審

• 申請號: 201280077254.2
• 申請日: 2012-11-23
• 公開（公告）號: CN104812938A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: V·基爾皮;J·科斯塔莫;W-M·李
• 申請（專利權）人: 皮考遜公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳文平;侯寶光

1.一種方法，其包括：

將多個襯底裝載到沉積反應器的裝載室中的襯底支架內，以在所述襯底支架內形成水平定向的襯底的垂直堆疊；和

轉動所述襯底支架以形成垂直定向的襯底的水平堆疊，并且將所述襯底支架下降至所述沉積反應器的反應室內用于沉積。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述裝載包括通過裝載器將襯底一次一個地移動通過裝載口進入所述裝載室。

3.根據權利要求1或2的方法，其包括：

在所述裝載室和所述反應室之間提供閘門，所述裝載室位于所述反應室的頂部。

4.根據前述權利要求任一項的方法，其包括：

通過裝置前端模塊將所述襯底從襯底存儲載體裝載至裝載設備拾取和返回站內；和

從所述裝載設備拾取和返回站將所述襯底一次一個地經過傳送室裝載到所述裝載室內。

5.根據前述權利要求任一項的方法，其包括通過旋轉移動來轉動所述襯底支架。

6.根據前述權利要求任一項的方法，其包括通過致動器從側面接入所述襯底支架，并且通過所述致動器轉動所述襯底支架。

7.根據前述權利要求任一項的方法，其包括：

將所述多個襯底在所述反應室內暴露于時間上隔開的前體脈沖，以通過依次的自飽和表面反應將材料沉積在襯底表面上。

8.一種儀器，其中

裝載器構造為將多個襯底裝載到沉積反應器的裝載室中的襯底支架內以在所述襯底支架內形成水平定向的襯底的垂直堆疊，所述儀器包括：

轉動機構和升降機，所述轉動機構構造為轉動所述襯底支架以形成垂直定向的襯底的水平堆疊，所述升降機構造為將所述襯底支架下降至所述沉積反應器的反應室內用于沉積。

9.根據權利要求8所述的儀器，其中所述裝載器構造為將襯底一次一個地移動通過裝載口進入所述裝載室。

10.根據權利要求8或9所述的儀器，其包括：

所述裝載室和所述反應室之間的閘門，所述裝載室位于所述反應室的頂部。

11.根據前述權利要求8-10任一項所述的儀器，其包括：

裝置前端模塊和裝載設備，所述裝置前端模塊構造為將所述襯底從襯底存儲載體裝載至裝載設備拾取和返回站內；并且所述裝載設備構造為將所述襯底從所述裝載設備拾取和返回站一次一個地經過傳送室裝載至所述裝載室內。

12.根據前述權利要求8-11任一項所述的儀器，其中所述轉動機構構造為通過旋轉移動來轉動所述襯底支架。

13.根據前述權利要求8-12任一項所述的儀器，其中所述轉動機構構造為從側面接入所述襯底支架，并且轉動所述襯底支架。

14.根據前述權利要求8-13任一項所述的儀器，其中所述儀器包括多個相互之間按預定方式放置的沉積反應器，并且所述裝載設備構造為裝載所述沉積反應器中的每一個。