[發(fā)明專利]ALD反應(yīng)器中的襯底裝載在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280077254.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104812938A | 公開(公告)日: | 2015-07-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | V·基爾皮;J·科斯塔莫;W-M·李 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 皮考遜公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳文平;侯寶光 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國(guó)省代碼: | 芬蘭;FI |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | ald 反應(yīng)器 中的 襯底 裝載 | ||
1.一種方法,其包括:
將多個(gè)襯底裝載到沉積反應(yīng)器的裝載室中的襯底支架內(nèi),以在所述襯底支架內(nèi)形成水平定向的襯底的垂直堆疊;和
轉(zhuǎn)動(dòng)所述襯底支架以形成垂直定向的襯底的水平堆疊,并且將所述襯底支架下降至所述沉積反應(yīng)器的反應(yīng)室內(nèi)用于沉積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述裝載包括通過(guò)裝載器將襯底一次一個(gè)地移動(dòng)通過(guò)裝載口進(jìn)入所述裝載室。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其包括:
在所述裝載室和所述反應(yīng)室之間提供閘門,所述裝載室位于所述反應(yīng)室的頂部。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其包括:
通過(guò)裝置前端模塊將所述襯底從襯底存儲(chǔ)載體裝載至裝載設(shè)備拾取和返回站內(nèi);和
從所述裝載設(shè)備拾取和返回站將所述襯底一次一個(gè)地經(jīng)過(guò)傳送室裝載到所述裝載室內(nèi)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其包括通過(guò)旋轉(zhuǎn)移動(dòng)來(lái)轉(zhuǎn)動(dòng)所述襯底支架。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其包括通過(guò)致動(dòng)器從側(cè)面接入所述襯底支架,并且通過(guò)所述致動(dòng)器轉(zhuǎn)動(dòng)所述襯底支架。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法,其包括:
將所述多個(gè)襯底在所述反應(yīng)室內(nèi)暴露于時(shí)間上隔開的前體脈沖,以通過(guò)依次的自飽和表面反應(yīng)將材料沉積在襯底表面上。
8.一種儀器,其中
裝載器構(gòu)造為將多個(gè)襯底裝載到沉積反應(yīng)器的裝載室中的襯底支架內(nèi)以在所述襯底支架內(nèi)形成水平定向的襯底的垂直堆疊,所述儀器包括:
轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和升降機(jī),所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)造為轉(zhuǎn)動(dòng)所述襯底支架以形成垂直定向的襯底的水平堆疊,所述升降機(jī)構(gòu)造為將所述襯底支架下降至所述沉積反應(yīng)器的反應(yīng)室內(nèi)用于沉積。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的儀器,其中所述裝載器構(gòu)造為將襯底一次一個(gè)地移動(dòng)通過(guò)裝載口進(jìn)入所述裝載室。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的儀器,其包括:
所述裝載室和所述反應(yīng)室之間的閘門,所述裝載室位于所述反應(yīng)室的頂部。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求8-10任一項(xiàng)所述的儀器,其包括:
裝置前端模塊和裝載設(shè)備,所述裝置前端模塊構(gòu)造為將所述襯底從襯底存儲(chǔ)載體裝載至裝載設(shè)備拾取和返回站內(nèi);并且所述裝載設(shè)備構(gòu)造為將所述襯底從所述裝載設(shè)備拾取和返回站一次一個(gè)地經(jīng)過(guò)傳送室裝載至所述裝載室內(nèi)。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求8-11任一項(xiàng)所述的儀器,其中所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)造為通過(guò)旋轉(zhuǎn)移動(dòng)來(lái)轉(zhuǎn)動(dòng)所述襯底支架。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求8-12任一項(xiàng)所述的儀器,其中所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)造為從側(cè)面接入所述襯底支架,并且轉(zhuǎn)動(dòng)所述襯底支架。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求8-13任一項(xiàng)所述的儀器,其中所述儀器包括多個(gè)相互之間按預(yù)定方式放置的沉積反應(yīng)器,并且所述裝載設(shè)備構(gòu)造為裝載所述沉積反應(yīng)器中的每一個(gè)。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





