[發(fā)明專利]具有耐彎曲性的透明導電膜及其制備方法

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• 申請日: 2012-12-21
• 公開（公告）號: CN104380394A
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發(fā)明（設計）人: 鄭根;金仁淑;趙靖;金庚澤;金凍應;沈熙埈;崔圣玹
• 申請（專利權）人: 樂金華奧斯有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;楊生平

技術領域

本發(fā)明涉及一種具有耐彎曲性的透明導電膜，更具體地，涉及為了確保透明導電膜的耐彎曲性，限定硬涂層的厚度的透明導電膜及其制備方法。

背景技術

目前使用于觸摸屏面板產(chǎn)業(yè)的透明導電膜大部分以靜電容量方式進行制備，通常主要考慮透明導電膜的電特性和光學特性。但是，為了實現(xiàn)未來將要使用的柔性顯示器，所使用的所有組件應具備對于耐彎曲性的耐用性，透明導電膜也一樣。

但是，目前為止幾乎沒有進行有關為了制備用于提高透明導電性的耐彎曲性的透明導電膜而使用的基材膜及硬涂層的結(jié)構的具體的研究。并且，日本專利公開公報第1998-114159號中雖記載了包括基材膜及硬涂層的透明導電膜的結(jié)構，但這只是為了確保透明導電膜的規(guī)定的硬度及耐用性，并沒有記載用于確保耐彎曲性的任何結(jié)構，仍顯露著對于彎曲呈現(xiàn)較大的電阻變化幅度的以往透明導電膜的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術問題

為了解決上述問題，本發(fā)明的一實例提供一種能夠使用于柔性顯示器的、耐彎曲性得到提高的透明導電膜。

技術方案

在本發(fā)明的一實例中，提供一種透明導電膜，上述透明導電膜包括：透明基材；硬涂層，形成于上述透明基材的雙面；以及透明導電層，其形成于上述硬涂層上。

上述硬涂層的厚度可以是約2μm至約4μm。

上述硬涂層的厚度可以是約3μm至約4μm。

上述硬涂層的硬度可以是約1H至約2H。

在上述透明導電層的上述透明基材一側(cè)的單面，還可包括1層以上的底涂層。

上述底涂層可包含硅氧化物。

上述透明導電膜的極限曲率半徑可以是約1cm至約3cm。

在本發(fā)明的另一實例中，提供一種透明導電膜的制備方法，上述透明導電膜的制備方法包括如下步驟：在透明基材的雙面形成硬涂層的步驟；以及在上述硬涂層上，通過濺射方法來形成透明導電層的步驟。

上述透明導電膜的制備方法可包括在上述透明導電層的上述透明基材一側(cè)的單面，還形成1層以上的底涂層的步驟。

有益效果

本發(fā)明確保上述透明導電膜的優(yōu)秀的耐彎曲性，能夠作為柔性顯示器用透明電極組件來使用。

并且，能夠?qū)⑸鲜鐾该鲗щ娔さ碾娮枳兓羁s小到10％以內(nèi)。

附圖說明

圖1是簡要表示透明導電膜的結(jié)構的剖視圖。

圖2是簡要表示包括底涂層的透明導電膜的結(jié)構的剖視圖。

圖3是簡要表示透明導電膜的曲率半徑的剖視圖。

圖4的(a)部分是表示透明導電膜的凸形彎曲(positive?bending)的剖視圖，圖4的(b)部分是表示透明導電膜的凹形彎曲(negative?bending)的剖視圖。

圖5是表示隨著彎曲次數(shù)而改變的電阻變化差的實驗結(jié)果的曲線圖。

具體實施方式

以下，參照附圖對本發(fā)明的實施例進行詳細的說明，以使本發(fā)明所屬技術領域的普遍技術人員能夠容易地實施。本發(fā)明通過多種相互不同的方式加以體現(xiàn)，并不局限于在此說明的實施例。

為了能夠明確說明本發(fā)明，省略了與本發(fā)明無關的部分，通過說明書全文對相同或類似的結(jié)構部件使用相同的附圖標記。

圖中為了明確表示多個層及區(qū)域，將厚度放大來顯示。并且，圖中為了便于說明，將部分層及區(qū)域的厚度放大來顯示。當層、膜、區(qū)域及板等的部分位于其他部分的“上面”或“上”時，這不僅表示位于其他部分的“緊上面”，還包含其中間還有另一個其他部分。相反，當某一部分位于其他部分的“緊上面”時，則表示中間沒有其他部分。

以下，對本發(fā)明進行詳細的說明。

透明導電膜

本發(fā)明的一實例提供一種透明導電膜，該透明導電膜包括：透明基材；硬涂層，其形成于上述透明基材的雙面；以及至少一個透明導電層，形成于上述硬涂層上。

參照圖1，透明導電膜100自上而下包括透明導電層10、硬涂層20、透明基材30及硬涂層20。

為了制備以往透明導電膜，涂敷于基材膜上的硬涂層的各種厚度為約1μm至約30μm。但是，目前為止的硬涂層的厚度，沒有考慮到透明導電膜的耐彎曲性特性，僅為了調(diào)整硬涂層的硬度而得到調(diào)節(jié)。