[發明專利]膜厚測量裝置和成膜裝置

有效

• 申請號: 201280073820.2
• 申請日: 2012-06-13
• 公開（公告）號: CN104395690B
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 佐井旭陽;日向陽平;大瀧芳幸;姜友松
• 申請（專利權）人: 株式會社新柯隆
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;C23C14/24
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

1.一種膜厚測量裝置，其特征在于，

所述膜厚測量裝置具備：

照射裝置，為了測量形成于被測量用基板的膜的光學膜厚，所述照射裝置通過由光纖構成的照射側光纖向所述被測量用基板照射光；

受光裝置，為了測量所述光學膜厚，所述受光裝置通過由光纖構成的受光側光纖接收從所述照射裝置照射后由所述被測量用基板反射的光；和

探頭，所述探頭是捆扎多個所述照射側光纖和多個所述受光側光纖而形成的，

該探頭在與所述被測量用基板對置的一側所具備的作為端面的對置面上，分別配置有多個所述照射側光纖的端面和多個所述受光側光纖的端面，

在所述對置面上，配置有多個的所述照射側光纖的各個端面以都與至少一個所述受光側光纖的端面相鄰的狀態排列成圓弧狀或圓環狀，并且，配置有多個的所述受光側光纖的各個端面以都與至少一個所述照射側光纖的各個端面相鄰的狀態排列成圓弧狀或圓環狀，所述照射側光纖的端面所構成的列和所述受光側光纖的端面所構成的列以構成彼此反向的螺旋的方式排列，

在所述對置面和所述被測量用基板之間沒有設置光學部件，所述探頭以所述對置面與所述被測量用基板的、位于與形成所述膜的一側相反的一側的非成膜面對置。

2.根據權利要求1所述的膜厚測量裝置，其特征在于，

構成所述探頭的多個所述照射側光纖和多個所述受光側光纖構成了端面在所述對置面上平齊的束狀光纖，

所述對置面和成膜面之間的距離在所述束狀光纖的直徑的2倍以上。

3.根據權利要求2所述的膜厚測量裝置，其特征在于，

所述被測量用基板是圓盤狀或圓環狀的基板。

4.根據權利要求1所述的膜厚測量裝置，其特征在于，

所述膜厚測量裝置具有：

所述照射裝置；

直流穩定電源，所述直流穩定電源對所述照射裝置所具備的光源供給直流電流；

所述探頭；

分光器，所述分光器具備所述受光裝置，并且輸出與所述受光裝置接收到由所述被測量用基板反射的光時的受光強度相對應的模擬信號；

放大器，所述放大器對從該分光器輸出的所述模擬信號進行放大；

A/D轉換器，所述A/D轉換器將由該放大器放大后的所述模擬信號轉換成數字信號；

電子計算機，所述電子計算機基于所述數字信號計算所述光學膜厚；和

信號處理電路，所述信號處理電路介于所述A/D轉換器和所述電子計算機之間，所述信號處理電路用于在所述電子計算機計算所述光學膜厚時對所述數字信號執行預定的信號處理。

5.一種成膜裝置，所述成膜裝置通過在真空容器內將蒸鍍材料蒸鍍于基板的表面而在所述基板上形成膜，

所述成膜裝置的特征在于，

所述成膜裝置具備：

蒸發機構，所述蒸發機構用于使所述蒸鍍材料蒸發；

開閉部件，所述開閉部件為了切斷該蒸發機構所蒸發的所述蒸鍍材料朝向所述基板的表面時的行進路徑而進行開閉動作；

控制機構，所述控制機構控制該開閉部件的開閉；和

權利要求1至4中的任意一項所述的膜厚測量裝置，

在所述基板和所述被測量用基板雙方收納于所述真空容器內的狀態下，為了將所述蒸鍍材料蒸鍍于所述基板和所述被測量用基板雙方的表面，所述蒸發機構使所述蒸鍍材料蒸發，所述膜厚測量裝置測量形成于所述被測量用基板的膜的所述光學膜厚，所述控制機構根據所述膜厚測量裝置對所述光學膜厚的測量結果來控制所述開閉部件的開閉。

6.根據權利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

在所述基板上形成多層膜的期間，在所述真空容器內配置同一個所述被測量用基板，并且在所述被測量用基板上也形成所述多層膜，

所述膜厚測量裝置逐層測量形成于所述被測量用基板的所述多層膜中的各層膜的所述光學膜厚。