[發(fā)明專利]用于生成電磁輻射的設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280070365.0
• 申請日: 2012-02-24
• 公開（公告）號: CN104145321A
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 阿馬爾·B·坎達(dá)爾;大衛(wèi)·馬爾科姆·卡姆;姆拉登·本布洛維奇;彼得·朗貝西斯
• 申請（專利權(quán)）人: 馬特森技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01J61/10
• 分類號: H01J61/10;H01J61/04;H01J61/35;H01J61/52
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 康建峰;陳煒

1.一種用于生成電磁輻射的設(shè)備，所述設(shè)備包括：

a)機(jī)殼；

b)旋渦發(fā)生器，所述旋渦發(fā)生器被配置成沿著所述機(jī)殼的內(nèi)表面生成液體渦流；

c)所述機(jī)殼內(nèi)的第一電極和第二電極，所述機(jī)殼內(nèi)的所述第一電極和所述第二電極被配置成在所述第一電極和所述第二電極之間生成等離子電弧；

d)絕緣殼體，所述絕緣殼體圍繞與所述電極中的一個電極的電連接的至少一部分；

e)屏蔽系統(tǒng)，所述屏蔽系統(tǒng)被配置成阻擋由所述電弧發(fā)射的電磁輻射，以防止所述電磁輻射對所述絕緣殼體的所有內(nèi)表面的沖擊；以及

f)冷卻系統(tǒng)，所述冷卻系統(tǒng)被配置成將所述屏蔽系統(tǒng)冷卻。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述屏蔽系統(tǒng)包括絕緣屏蔽部件，所述絕緣屏蔽部件具有被配置成阻擋所述電磁輻射的不透明表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述絕緣屏蔽部件包括陶瓷屏蔽部件。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述冷卻系統(tǒng)包括所述旋渦發(fā)生器，并且其中，所述旋渦發(fā)生器被配置成將所述絕緣屏蔽部件的所述不透明表面暴露于所述液體渦流。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述屏蔽系統(tǒng)包括所述機(jī)殼的、被配置成阻擋所述電磁輻射的不透明部分。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述機(jī)殼的所述不透明部分包括所述機(jī)殼在其內(nèi)表面上具有不透明涂層的部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述機(jī)殼的所述不透明部分由不透明石英構(gòu)成。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述冷卻系統(tǒng)包括所述旋渦發(fā)生器，并且其中，所述旋渦發(fā)生器被配置成將所述機(jī)殼的所述不透明部分暴露于所述液體渦流。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述屏蔽系統(tǒng)包括導(dǎo)電屏蔽部件，所述導(dǎo)電屏蔽部件具有被配置成阻擋所述電磁輻射的不透明表面。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中，所述冷卻系統(tǒng)被配置成以傳導(dǎo)方式冷卻所述導(dǎo)電屏蔽部件。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，所述冷卻系統(tǒng)包括與所述導(dǎo)電屏蔽部件傳導(dǎo)接觸的液冷導(dǎo)體。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述屏蔽系統(tǒng)還被配置成阻擋所述電磁輻射對環(huán)形密封圈的沖擊。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括耐熱環(huán)形密封圈，所述耐熱環(huán)形密封圈被配置成將所述設(shè)備的至少一個部件抵靠所述機(jī)殼密封。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括：第二絕緣殼體和第二屏蔽系統(tǒng)，所述第二絕緣殼體圍繞所述電極中的另一個電極的至少一部分，所述第二屏蔽系統(tǒng)被配置成阻擋由所述電弧發(fā)射的所述電磁輻射，以防止所述電磁輻射對所述第二絕緣殼體的所有內(nèi)表面的沖擊，其中，所述冷卻系統(tǒng)被配置成將所述第二屏蔽系統(tǒng)冷卻。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述屏蔽系統(tǒng)還包括光管道屏蔽部件，所述光管道屏蔽部件被配置成防止所述電磁輻射從所述機(jī)殼的環(huán)形內(nèi)部體積區(qū)軸向泄露。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其中，所述光管道屏蔽部件包括鄰接于所述機(jī)殼的遠(yuǎn)端的不透明襯墊。

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其中，所述冷卻系統(tǒng)包括所述旋渦發(fā)生器，并且其中，所述旋渦發(fā)生器被配置成將所述光管道屏蔽部件暴露于所述液體渦流。

18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括外部隔熱罩，所述外部隔熱罩被配置成對所述絕緣殼體的外表面的至少一部分進(jìn)行熱屏蔽，其中，所述冷卻系統(tǒng)還被配置成將所述外部隔熱罩冷卻。

19.一種用于生成電磁輻射的設(shè)備，所述設(shè)備包括：

a)用于沿著機(jī)殼的內(nèi)表面生成液體渦流的裝置；

b)用于在所述機(jī)殼內(nèi)的第一電極和第二電極之間生成等離子電弧的裝置；

c)用于阻擋由所述電弧發(fā)射的電磁輻射以防止所述電磁輻射對絕緣殼體的所有內(nèi)表面的沖擊的裝置，所述絕緣殼體圍繞與所述電極中的一個電極的電連接的至少一部分；以及

d)用于將用于阻擋的裝置進(jìn)行冷卻的裝置。