[發明專利]在補償呼吸參數頻率的情況下收集并分析一定體積的呼出的氣體

有效

• 申請號: 201280070020.5
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN104284699B
• 公開（公告）日: 2017-12-22
• 發明（設計）人: 安東尼·D·翁德卡;阿尼施·巴特納格爾
• 申請（專利權）人: 卡普尼亞公司
• 主分類號: A62B27/00
• 分類號: A62B27/00
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287
• 代理人: 劉鋒

1.一種用于分析患者呼吸的氣體濃度的設備，所述設備包含：

氣體分析儀，其測量所述設備中的氣體的濃度；

入口，其接收所述患者的呼吸；

呼吸分析儀，其測定所述患者呼吸的呼吸參數頻率；

數據庫，其包含對應于多個呼吸參數頻率的多個系數；和

處理器，其含有非暫時性計算機可讀媒體，所述非暫時性計算機可讀媒體含有可執行指令，所述可執行指令在執行時執行測定所述設備的所述入口處的所述患者呼吸的所述氣體濃度的方法，所述方法包含：

訪問所述數據庫以基于所述患者的呼吸參數頻率獲得第一多個系數；

基于所述第一多個系數推導第一多個多項式方程；

通過將所述呼吸參數頻率輸入到所述第一多個多項式方程中的每一者中來推導第二多個系數；

使用所述第二多個系數推導補償方程；以及

通過將所測量的氣體濃度輸入到所述補償方程中來測定所述入口氣體濃度。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所述第一多個多項式方程中的每一者是二次方程且所述第一多個系數的數量是三個。

3.根據權利要求1所述的設備，其中所述補償方程是線性的且所述第二多個系數的數量是兩個。

4.根據權利要求1所述的設備，其中所述數據庫包含第一系數子集和第二系數子集，其中所述第一系數子集對應于等于或低于預定呼吸參數頻率的呼吸參數頻率，且所述第二系數子集對應于等于或高于所述預定呼吸參數頻率的呼吸參數頻率。

5.根據權利要求4所述的設備，其中所述預定呼吸參數頻率是基于所述患者呼吸的樣品的均質性。

6.一種用于測定設備入口處患者呼吸的氣體濃度的方法，所述方法包含：

測定所述患者的呼吸參數頻率；

測量所述設備中的氣體濃度；

推導補償方程；

通過將所測量的氣體濃度輸入到所述補償方程中來測定所述入口處的所述氣體濃度；以及

訪問數據庫以獲得對應于所述患者的呼吸參數頻率的多個系數，其中所述數據庫包含第一系數子集和第二系數子集，其中所述第一系數子集對應于等于或低于預定呼吸參數頻率的呼吸參數頻率，且所述第二系數子集對應于等于或高于所述預定呼吸參數頻率的呼吸參數頻率，且其中推導所述補償方程進一步包含使用所述多個系數。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述補償方程為多項式方程。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述補償方程是線性的。

9.根據權利要求6所述的方法，其中所述預定呼吸參數頻率是基于所述患者呼吸的樣品的均質性。

10.一種用于分析患者呼吸的氣體濃度的設備，所述設備包含：

樣品隔室，其捕獲所述患者的呼吸；

呼吸分析儀，其確定呼吸頻率；

氣體分析儀，其確定所述樣品隔室中所述呼吸的氣體濃度，其中所述氣體濃度包含從群組中選擇的至少一者，所述群組包含有一氧化碳濃度和二氧化碳濃度；以及

處理器，其包含算法，所述算法基于所述呼吸頻率確定在所述樣品隔室中的所述呼吸樣品的非均質性的程度，其中所述算法進一步基于所述呼吸頻率、所述非均質性的程度和所確定的氣體濃度來確定校正的氣體濃度。

11.根據權利要求10所述的設備，其進一步包含流量控制泵，其從所述樣品隔室中抽氣。

12.根據權利要求10所述的設備，其中所述呼吸分析儀確定所述患者呼吸子部分的開始或結束的至少一者。