[發明專利]LED光源裝置、膜厚測量裝置以及薄膜形成裝置

有效

• 申請號: 201280069673.1
• 申請日: 2012-02-27
• 公開（公告）號: CN104169676B
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發明（設計）人: 佐井旭陽;日向陽平;大瀧芳幸;宮內充祐;長江亦周
• 申請（專利權）人: 株式會社新柯隆
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;H01L21/66
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黨曉林;王小東

提供能夠增大光量變化量的膜厚測量用的LED光源裝置(30)。LED光源裝置(30)配置有：多個LED發光源(34～36)；多個準直構件(342、352、362)，它們配置于各發光源的下游側，并使來自各發光源的入射光分別準直地射出；多個第1濾光構件(37、38)，它們配置于各準直構件的下游側，并僅使入射光中的特定波長區域以上的光透射和/或反射，或者僅使特定波長區域以下的光透射和/或反射而射出；以及聚光構件(39)，其配置于第1濾光構件(38)的更下游側，并使來自各第1濾光構件的入射光會而射出，并且，在各準直構件(342、352、362)的下游側且在各第1濾光構件(37、38)的上流側，配置有僅使來自各準直構件的入射光中的特定范圍的波長透射而射出的第2濾光構件(344、354、364)。

技術領域

本發明涉及LED光源裝置、膜厚測量裝置以及薄膜形成裝置，所述LED光源裝置特別適合使用于在光學薄膜的膜厚測量裝置中使用的投光器，所述膜厚測量裝置包括該光源裝置來作為投光器，在所述薄膜形成裝置組裝有該膜厚測量裝置。

背景技術

作為用于對膜厚測量的對象基板照射分布在預定的波長區域的光的光源裝置，已知采用多個發光二極管(LED)作為其光源的光源裝置(專利文獻1)。另外，作為用于觀察或檢查等的光源裝置，也已知采用多個LED的光源裝置(專利文獻2)。專利文獻1、2的LED光源裝置都是在多個LED的下游側配置二向色濾光器作為光學過濾器。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002-81910號公報

專利文獻2：日本特開2006-139044號公報

發明內容

發明要解決的課題

可是，在上述以前的LED光源裝置中，由于僅將二向色濾光器作為光學過濾器來使用，因此，來自該光源裝置的照射光的波長帶較寬。具體來說，其照射光的半高寬(FWHM)寬至超過20nm。

可是，為了提高對光學設備的控制精度，希望提高光學薄膜的膜厚精度。對于光學薄膜的高精度的膜厚控制來說，該膜厚的測量是不可或缺的，提出有在膜厚控制中使用的膜厚測量裝置。在膜厚測量中，優選使用在響應性等方面優異的光學式膜厚計。并且，在此所說的膜厚表示光學薄膜的膜厚，是取決于物理性膜厚和折射率的值。在這樣的光學膜厚的測量中使用上述半高寬較廣的照射光的情況下，光量變化量較小，因此難以控制光學膜厚，從而存在控制精度降低的情況。

在本發明的一方面，提供一種LED光源裝置、膜厚測量裝置以及薄膜形成裝置，所述LED光源裝置能夠使在膜厚測量中使用時的光量變化量增大，所述膜厚測量裝置提高控制精度，所述薄膜形成裝置使用該膜厚測量裝置。

用于解決課題的手段

本發明者們對適用于光學薄膜的測量或膜厚控制的在膜厚測量裝置中使用的LED光源裝置進行了專心研究，其結果是發現了下述情況：如果光源裝置構成為能夠照射控制波長區域較窄、具體來說半高寬窄到20nm左右以下的波長帶的照射光，則能夠增大將該光源裝置用于膜厚測量時的光量變化量。另外，還發現：通過使用這樣的特定的LED光源裝置來構成膜厚測量裝置，光學膜厚的控制精度得以提高。

并且，在以下內容中，在示出發明的實施方式的附圖中標記對應的標號進行說明，但該標號僅是為了使發明容易理解，并不對發明進行限定。