[發(fā)明專利]在成像裝置中再循環(huán)和過濾空氣以形成空氣屏障有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280068783.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104169095B | 公開(公告)日: | 2017-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | S·奧哈拉;C·D·拉森;K·羅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 惠普發(fā)展公司;有限責(zé)任合伙企業(yè) |
| 主分類號(hào): | B41J29/38 | 分類號(hào): | B41J29/38;B41J2/01 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 謝攀,徐紅燕 |
| 地址: | 美國德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 裝置 再循環(huán) 過濾 空氣 形成 屏障 | ||
背景技術(shù)
成像裝置可包括以液滴形式將諸如墨之類的流體噴射在基底上的流體施加器單元。成像裝置可形成空氣屏障以減少沉積在成像裝置的基底、流體施加器單元和/或其它部件上的浮質(zhì)(aerosol)、微粒等的量。
附圖說明
非限制性示例在以下描述中描述,參考所附的圖進(jìn)行閱讀,且不限制權(quán)利要求的范圍。圖中示出的部件和特征的尺寸主要為了表示的方便和清楚而選擇,并不一定按比例。參考附圖:
圖1是根據(jù)示例的成像裝置的框圖。
圖2A是根據(jù)示例的在打印模式中成像裝置的示意性側(cè)視圖。
圖2B是根據(jù)示例的在維護(hù)模式中成像裝置的示意性側(cè)視圖。
圖3是根據(jù)示例的圖2B的成像裝置的基底(substrate)接收構(gòu)件的頂視圖。
圖4是圖示根據(jù)示例的在成像裝置中再循環(huán)空氣的方法的流程圖。
圖5是圖示根據(jù)示例的諸如成像裝置之類的計(jì)算設(shè)備的框圖,該計(jì)算設(shè)備包括處理器和存儲(chǔ)用以操作計(jì)算設(shè)備以再循環(huán)空氣的指令的非臨時(shí)計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。
具體實(shí)施方式
成像裝置可包括以液滴形式將諸如墨之類的流體噴射在基底上的流體施加器單元。成像裝置可形成空氣屏障以減少沉積在成像裝置的基底、流體施加器單元和/或其它部件上的浮質(zhì)、微粒等的量。成像裝置還可周期性地執(zhí)行維護(hù)過程以維護(hù)流體施加器單元內(nèi)的流動(dòng)路徑以便適當(dāng)?shù)貜钠鋰娚湟旱?。也就是說,在維護(hù)模式中,流體施加器單元可周期性地執(zhí)行噴濺過程,其中流體被從流體施加器單元以液滴形式從其噴射。然而,從流體施加器單元噴射的液滴可形成浮質(zhì),所述浮質(zhì)如果不適當(dāng)?shù)厝コ?,可污染成像裝置的基底和/或部件。此外,浮質(zhì)可使光學(xué)傳感器不清晰,引起過早失效,增加旋轉(zhuǎn)構(gòu)件中的摩擦,沉積在介質(zhì)路徑表面上,增加摩擦以及潛在地引起成像裝置泄漏弄臟內(nèi)部和周圍環(huán)境。此外,浮質(zhì)與其它微粒的組合可相互作用通過形成粘性的球狀體而增加這些問題。此外,例如灰塵、紙屑等微粒也可污染基底。因此,浮質(zhì)和/或微粒可引起圖像缺陷、部件故障和/或降低成像裝置的壽命。
在示例中,成像裝置除其它部件之外還包括基底接收構(gòu)件、流體施加器單元和空氣再循環(huán)器組件。流體施加器單元可在打印模式中將第一組液滴選擇性地噴射到由基底接收構(gòu)件接收的基底上,而在維護(hù)模式中選擇性地噴射第二組液滴。空氣再循環(huán)器組件可引導(dǎo)空氣以形成跨打印區(qū)域的空氣屏障以使浮質(zhì)和微粒的至少一個(gè)從穿過空氣屏障且到基底上重定向(redirect),以過濾浮質(zhì)和微粒的至少一個(gè)來形成經(jīng)過濾的空氣,且用經(jīng)過濾的空氣形成空氣屏障。因此,可有效地執(zhí)行浮質(zhì)和/或微粒的充分重定向和抽出。此外,可防止基底接觸流體施加器單元的表面。因而,可減少成像缺陷、部件故障和成像裝置的壽命的降低。
圖1是根據(jù)示例的成像裝置的框圖。參考圖1,在一些示例中,成像裝置100包括基底接收構(gòu)件12、流體施加器單元14和空氣再循環(huán)器組件16?;捉邮諛?gòu)件12可選擇性地接收基底。也就是說,基底可沿基底傳輸路徑傳輸以被放置在基底接收構(gòu)件12上。基底可包括諸如紙張、乙烯樹脂、塑料、織物等之類的介質(zhì)。在一些示例中,不同大小的基底可由基底接收構(gòu)件12接收?;捉邮諛?gòu)件12可以是滾筒(platen)等。
參考圖1,在一些示例中,在打印模式中,流體施加器單元14可將第一組液滴選擇性地噴射到布置在基底接收構(gòu)件12上的基底。在維護(hù)模式中,流體施加器單元14還可選擇性地噴射第二組液滴。也就是說,打印模式是其中流體的第一組液滴被流體施加器單元14噴射到基底上的模式。例如,第一組液滴可在基底上形成圖像??商鎿Q地,維護(hù)模式是其中流體的第二組液滴被流體施加器單元14噴射以維護(hù)流體施加器單元14中的流動(dòng)路徑以從其適當(dāng)?shù)貒娚浜罄m(xù)的第一組液滴的模式。
在一些示例中,流體施加器單元14可包括以液滴形式噴射墨的至少一個(gè)噴墨打印頭。例如,流體施加器單元14可以是頁寬噴墨打印頭陣列,其包括跨基底傳輸路徑的寬度延伸的多個(gè)噴墨打印頭。也就是說,多個(gè)噴墨打印頭可跨進(jìn)入打印區(qū)域且布置在基底接收構(gòu)件12上的基底的寬度延伸。流體施加器單元14和基底接收構(gòu)件12可在其間形成打印區(qū)域。空氣再循環(huán)器組件16可引導(dǎo)空氣以形成跨打印區(qū)域的空氣屏障以使浮質(zhì)和微粒的至少一個(gè)從穿過空氣屏障且到基底上重定向??諝庠傺h(huán)器組件16還可過濾浮質(zhì)和微粒的至少一個(gè)以形成經(jīng)過濾的空氣??諝庠傺h(huán)器組件16還可用經(jīng)過濾的空氣形成空氣屏障。此外,可防止基底接觸流體施加器單元14的表面。
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B41J29-02 .排字架
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B41J29-08 .與機(jī)器分開的消音器或減震臺(tái)、支架、字盒或墊料
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