[發(fā)明專利]閃蒸器及其運(yùn)轉(zhuǎn)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280066905.8
• 申請(qǐng)日: 2012-12-27
• 公開（公告）號(hào): CN104039993A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 松原諭;中井修;京田洋治;坂元隆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友金屬礦山株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C22B23/00
• 分類號(hào): C22B23/00;B01J3/02;C22B3/04
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種閃蒸器，其是在包含閃蒸器的高壓酸浸工序中的閃蒸器，在該高壓酸浸工序中，利用高壓釜對(duì)原料漿料在高溫高壓下進(jìn)行浸出，接著將浸出后的漿料降溫降壓到常溫常壓，其特征在于，

該閃蒸器包括：

靜水塔，其下部與該閃蒸器內(nèi)的液相空間連通，上部與該閃蒸器內(nèi)的氣相空間連通；

上限液面?zhèn)鞲衅鳎錇橹辽?個(gè)，設(shè)置在與上述液相空間的規(guī)定的液面上限相同高度的位置，用于檢測(cè)上升過(guò)來(lái)的上述靜水塔內(nèi)的液面；以及

下限液面?zhèn)鞲衅鳎錇橹辽?個(gè)，設(shè)置在與上述液相空間的規(guī)定的液面下限相同高度的位置，用于檢測(cè)下降過(guò)來(lái)的上述靜水塔內(nèi)的液面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閃蒸器，其特征在于，

上述靜水塔的下部連結(jié)于漿料排出管上的自該漿料排出管與閃蒸器的連結(jié)部位起到漿料排出閥的區(qū)間中的任意位置，上述靜水塔的下部，上述靜水塔的上部連結(jié)于蒸氣排出管上的任意位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的閃蒸器，其特征在于，

上述靜水塔的直徑A與該閃蒸器的直徑B相比較，處于1/100×B≤A≤1/5×B的范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的閃蒸器，其特征在于，

上述原料漿料為氧化鎳礦漿料，將利用硫酸對(duì)該氧化鎳礦漿料進(jìn)行浸出而得到的浸出后的漿料降溫降壓至常溫常壓。

5.一種閃蒸器的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其是在包含閃蒸器的高壓酸浸工序中的閃蒸器的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，在該高壓酸浸工序中，利用高壓釜對(duì)原料漿料在高溫高壓下進(jìn)行浸出，接著將浸出后的漿料降溫降壓到常溫常壓，其特征在于，

利用上限液面?zhèn)鞲衅骱蜕舷抟好鎮(zhèn)鞲衅鱽?lái)對(duì)下部與上述閃蒸器內(nèi)的上述液相空間連通、上部與上述閃蒸器內(nèi)的氣相空間連通的靜水塔內(nèi)的液面進(jìn)行檢測(cè)，該上限液面?zhèn)鞲衅鳛橹辽僖粋€(gè)，設(shè)置在與上述液相空間的規(guī)定的液面上限相同高度的位置，該上限液面?zhèn)鞲衅鳛橹辽僖粋€(gè)，設(shè)置在與上述液相空間的規(guī)定的液面下限相同高度的位置，

在上述上限液面?zhèn)鞲衅鳈z測(cè)到上升過(guò)來(lái)的上述靜水塔內(nèi)的液面時(shí)，將設(shè)置于自上述閃蒸器導(dǎo)出的漿料排出管上的漿料排出閥打開，在上述下限液面?zhèn)鞲衅鳈z測(cè)到下降過(guò)來(lái)的上述靜水塔內(nèi)的液面時(shí)，將設(shè)置于自上述閃蒸器導(dǎo)出的漿料排出管上的漿料排出閥關(guān)閉。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的閃蒸器的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，

上述原料漿料為氧化鎳礦漿料，將利用硫酸對(duì)該氧化鎳礦漿料進(jìn)行浸出而得到的浸出后的漿料降溫降壓至常溫常壓。