[發(fā)明專利]放射線檢測(cè)器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280064604.1
• 申請(qǐng)日: 2012-12-19
• 公開（公告）號(hào): CN104024887A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 片岡淳;岸本彩;鐮田圭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 學(xué)校法人早稻田大學(xué);古河機(jī)械金屬株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G01T1/20
• 分類號(hào): G01T1/20;G01T1/161
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 金相允;向勇

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及放射線檢測(cè)器。

背景技術(shù)

放射線檢測(cè)器例如應(yīng)用于PET(Positron?Emission?Tomography：正電子發(fā)射斷層掃描技術(shù))、SPECT(Single?photon?emission?computed?tomography：?jiǎn)喂庾影l(fā)射計(jì)算機(jī)斷層成像術(shù))、伽瑪照相機(jī)等的核醫(yī)學(xué)成像裝置。這些核醫(yī)學(xué)成像裝置是如下的裝置，即，利用若對(duì)被檢測(cè)體投入正電子放射線同位素(RI)標(biāo)志的藥劑則釋放湮沒伽馬射線的性質(zhì)，使用放射線檢測(cè)器對(duì)湮沒伽馬射線進(jìn)行檢測(cè)，從而獲得被檢測(cè)體內(nèi)的RI(Radioactive?Isotopes：放射性同位素)分布圖像的裝置。

就用于上述用途的放射線檢測(cè)器而言，為了實(shí)現(xiàn)空間分辨率的進(jìn)一步提高，期望存在對(duì)放射線檢測(cè)器在深度方向(長(zhǎng)度方向)上的發(fā)光位置進(jìn)行檢測(cè)的技術(shù)。

在專利文獻(xiàn)1中公開了以下的放射線入射位置三維檢測(cè)器。該放射線入射位置三維檢測(cè)器具有多個(gè)柱狀閃爍體和連接于多個(gè)柱狀閃爍體的每一個(gè)的底面的受光元件。多個(gè)柱狀閃爍體沿上下方向堆積具有規(guī)定的形狀的多個(gè)閃爍體單元塊而成。多個(gè)柱狀閃爍體配置為彼此的側(cè)面相鄰，在相鄰的側(cè)面內(nèi)的一部分設(shè)置有反射片，并且為了使彼此的光往來(lái)，至少在最上層的閃爍體單元塊的側(cè)面的一部分不設(shè)置反射片。此外，上述放射線入射位置三維檢測(cè)器利用光電倍增管來(lái)作為受光元件。而且，受光元件僅設(shè)置于沿上下方向堆積了多個(gè)閃爍體單元塊的結(jié)構(gòu)體的一面。

在專利文獻(xiàn)2中公開了以下的放射線位置檢測(cè)器。該放射線位置檢測(cè)器將閃爍體元件三維排列而構(gòu)成大致長(zhǎng)方體狀的塊。而且，在上述大致長(zhǎng)方體的2面以上例如在整個(gè)面上連接受光元件。即，上述技術(shù)以使閃爍體元件發(fā)出的光三維地?cái)U(kuò)散為前提。

在專利文獻(xiàn)3中公開了以下的放射線檢測(cè)器。上述放射線檢測(cè)器具有：閃爍晶體、光檢測(cè)器以及光減少部。閃爍晶體形成為細(xì)長(zhǎng)形狀，放射線從一端入射。光檢測(cè)器配置于閃爍晶體的另一端，檢測(cè)熒光的強(qiáng)度。光減少部位于閃爍晶體的外側(cè)面的局部，減少在內(nèi)部傳播的熒光的強(qiáng)度。該放射線檢測(cè)器利用光電倍增管來(lái)作為光檢測(cè)器。而且，光檢測(cè)器僅設(shè)置于閃爍晶體的一端。

在專利文獻(xiàn)4中公開了以下的放射線三維位置檢測(cè)裝置。該放射線三維位置檢測(cè)裝置具有閃爍單元與受光元件。閃爍單元能夠通過如下方式獲得，即將多個(gè)閃爍體單元塊層疊成層狀，將折射率與上述閃爍體單元塊不同的較薄的透明板插入各閃爍體單元塊之間而形成多層閃爍體，將兩個(gè)多層閃爍體并排配置，在這兩個(gè)多層閃爍體之間插入一部分不包含反射材料的較薄的透明板，并對(duì)這些部件進(jìn)行結(jié)合。受光元件與多層閃爍體的一端部連接。

在專利文獻(xiàn)5中公開了將板狀或者柱狀閃爍體與光檢測(cè)器結(jié)合的放射線位置檢測(cè)器。該放射線位置檢測(cè)器將閃爍體層疊成多層，在多層之間以光學(xué)方式結(jié)合，從而檢測(cè)向入射閃爍體的放射線入射位置與閃爍體中的發(fā)光點(diǎn)的深度位置。

在專利文獻(xiàn)6中公開了一種放射線三維位置檢測(cè)器，該放射線三維位置檢測(cè)器以多個(gè)閃爍體元件的中心位置偏向與光位置檢測(cè)器的受光面平行的方向的方式在光位置檢測(cè)器上層疊該多個(gè)閃爍體元件，并使來(lái)自光位置檢測(cè)器的輸出光的空間分布的重心位置在所層疊的每個(gè)閃爍體元件中都不同，由此，基于重心位置運(yùn)算，確定放射線入射并發(fā)出熒光的閃爍體元件。此外，該技術(shù)的本質(zhì)在于層疊熒光衰減時(shí)間常數(shù)不同的第一閃爍體陣列以及第二閃爍體陣列。

在專利文獻(xiàn)7中公開了以下的三維放射線位置檢測(cè)器。該三維放射線位置檢測(cè)器具備閃爍單元、受光元件以及運(yùn)算部。閃爍單元設(shè)置在受光元件的光入射面上，沿著與該光入射面垂直的方向按順序?qū)盈B有四個(gè)閃爍體陣列。各閃爍體陣列二維地排列有8×8個(gè)的閃爍體單元塊。而且，某層的閃爍體陣列所包含的閃爍體單元塊與其他層的閃爍體陣列所包含的閃爍體單元塊的至少一個(gè)相同側(cè)面的光學(xué)條件彼此不同。

另外，相關(guān)的技術(shù)被非專利文獻(xiàn)1公開。其中，在非專利文獻(xiàn)1中記載到在現(xiàn)有技術(shù)中的位置分辨性能為1mm左右。

專利文獻(xiàn)1：日本特開平11-142523號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2011-149883號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特開2009-31132號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)4：日本特開昭63-47686號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)5：日本特公平5-75990號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)6：日本特開2003-21682號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)7：日本特開2004-279057號(hào)公報(bào)