[發明專利]由去污裝置和至少一個預型件構成的組件、制造無菌容器的設備和方法

在審

• 申請號: 201280063183.0
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN104010667A
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發明（設計）人: C·貝勒克;G·弗約萊
• 申請（專利權）人: 西德爾合作公司
• 主分類號: A61L2/10
• 分類號: A61L2/10
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李麗

1.組件(1)，所述組件包括用以制造容器的至少一個熱塑性材料預型件(12)和對預型件(12)內部進行去污的去污裝置(10)，其中，所述預型件(12)包括頸部(44)，所述頸部通過由底部(42)封閉的主體(40)軸向地延伸，所述頸部界定進出所述預型件(12)內部的開口(18)，

其特征在于，所述去污裝置(10)包括至少一個支承機構(20)，所述支承機構承載輻照去污部件(22)，所述輻照去污部件由半導體類型的器件構成，所述器件用于通過開口(18)被引入到所述預型件(12)內部，以在待去污的預型件(12)的內部選擇性地發射至少一種紫外線輻射。

2.根據權利要求1所述的組件，其特征在于，形成所述輻照去污部件(22)的所述器件中的至少一個器件發射“C”類型的紫外線輻射，所述“C”類型的紫外線輻射具有波長在100nm到280nm之間的至少一個主發射譜線。

3.根據權利要求1或2所述的組件，其特征在于，形成所述輻照去污部件(22)的所述器件中的至少一個器件發射“A”類型的紫外線輻射，所述“A”類型的紫外線輻射具有波長在315nm到400nm之間的至少一個主發射譜線。

4.根據權利要求1到3中任一項所述的組件，其特征在于，所述輻照去污部件(22)由形成至少第一器件組和第二器件組的器件構成；并且，至少所述第一器件組由至少一個器件構成，所述第一器件組的所述至少一個器件發射的紫外線輻射具有波長在100nm到400nm之間的至少一個主發射譜線。

5.根據權利要求4所述的組件，其特征在于，所述第二器件組由至少一個器件構成，所述第二器件組的所述至少一個器件發射紅外線輻射，所述紅外線輻射具有波長在780nm到1mm之間的至少一個主發射譜線。

6.根據權利要求1到5中任一項所述的組件，其特征在于，所述去污裝置(10)包括致動部件(38)，所述致動部件被選擇性地控制，以引起所述支承機構(20)和所述預型件(12)之間相對移動，以便暫時性地將所述輻照去污部件(22)引入所述預型件(12)內部。

7.根據權利要求1到6中任一項所述的組件，其特征在于，所述輻照去污部件(22)由這樣的器件構成：器件被布置在所述支承機構(20)的用于被接納在所述預型件(12)內部的段部的整個高度(h)或一部分高度上。

8.根據權利要求1到7中任一項所述的組件，其特征在于，所述輻照去污部件(22)由這樣的器件構成：器件被布置在所述支承機構(20)的整個周廓上，以便朝所有方向、以基本360°發射輻射，以對所述預型件(12)內部進行去污。

9.根據權利要求1到8中任一項所述的組件，其特征在于，用于支承器件的所述支承機構(20)被選擇性地帶動轉動，以用至少一種紫外線輻射掃掠所述預型件(12)內部。

10.根據權利要求1到9中任一項所述的組件，其特征在于，所述去污裝置(10)包括控制單元(36)，所述控制單元選擇性地控制器件，以控制所述至少一種紫外線輻射的發射或不發射。

11.根據權利要求1到10中任一項所述的組件，其特征在于，用于支承器件的所述支承機構(20)由用于制造容器的預型件(12)模制單元的拉伸桿構成。

12.根據權利要求1到11中任一項所述的組件，其特征在于，所述去污裝置(10)包括用于冷卻器件的冷卻部件(30)，所述冷卻部件(30)至少由所述支承機構(20)構成，至少通過傳導排出器件在運行時所產生的熱量。

13.根據權利要求12所述的組件，其特征在于，所述支承機構(20)包括冷卻回路，用以在所述支承機構(20)的內部選擇性地建立載熱流體的循環。

14.根據前述權利要求中任一項所述的組件，其特征在于，形成所述輻照去污部件(22)的所述器件中的至少一部分器件是發光二極管。

15.根據前述權利要求中任一項所述的組件，其特征在于，形成所述輻照去污部件(22)的所述器件中的至少一部分器件是激光二極管。