[發明專利]玻璃基板

無效

• 申請號: 201280062496.4
• 申請日: 2012-12-10
• 公開（公告）號: CN104159859A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 梶田大士
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: C03C3/078
• 分類號: C03C3/078;C03C3/087;C03C3/089;C03C3/093;G11B5/73;G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

技術領域

本發明涉及玻璃基板。

背景技術

近年來，隨著HDD(硬盤驅動器)的存儲容量飛躍性地增大，必不可少地需要減小1比特所使用的介質的記錄面積。并且，為了減小記錄面積而進行高密度化，需要使頭與盤的距離更穩定而進行記錄的讀寫。

但是，為此需要降低作為盤的基板的玻璃基板的表面粗糙度Ra，但是目前所提出的表面粗糙度Ra為左右(日本特開2008-097821號公報(專利文獻1))，要求進一步降低表面粗糙度Ra(算術平均粗糙度)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2008-097821號公報

發明內容

發明要解決的課題

如上所述為了降低玻璃基板的表面粗糙度Ra，需要高精度的拋光技術，然而在這樣的拋光技術中使用的氧化鈰等拋光材料的成本高漲，因此必須抑制其用量。

但是，為了在抑制氧化鈰等拋光材料的用量的拋光條件下獲得具有低表面粗糙度Ra的玻璃基板，要求化學耐久性優異并使表面狀態高度穩定化、以及具有適度的強度特性，但是尚未提供具有這樣的特性的玻璃基板。

本發明是鑒于這樣的狀況而進行的，其目的在于提供一種玻璃基板，該玻璃基板的化學耐久性優異并能夠使表面狀態高度穩定化，同時在維氏硬度、楊氏模量、斷裂韌性等方面具有適度的強度特性，由此可以在具有適宜的物性值的同時以高拋光速率(單位時間的拋光量)實現低表面粗糙度Ra。

用于解決課題的方案

本發明的玻璃基板的特征在于，該玻璃基板含有下述玻璃組成，該玻璃組成以摩爾％表示具有

SiO₂：58％～74％、

Al₂O₃：0％～5％、

B₂O₃：0％～5％、

Li₂O：0％～3％、

Na₂O：0.1％～6％、

K₂O：3％～9％、

MgO：2％～10％、

CaO：8％～18％、

ZnO：0％～5％、

TiO₂：0％～5％、

ZrO₂：1％～8％的含量范圍，

并且滿足0.01<ZrO₂/(SiO₂+Al₂O₃+B₂O₃)<0.15的條件。

此處，上述玻璃基板優選為HDD用玻璃基板，另外反轉式拋光工序后的表面粗糙度Ra在1μm×1μm的范圍優選為以下。

另外，本發明的玻璃基板優選含有下述玻璃組成，該玻璃組成以摩爾％表示具有

SiO₂：61％～71％

Al₂O₃：0％～3％

B₂O₃：0％～3％

Li₂O：0％～2％

Na₂O：1％～5％

K₂O：4％～8％

MgO：4％～9％

CaO：9％～16％

ZnO：0％～3％

TiO₂：0％～3％

ZrO₂：2％～7％的含量范圍，

并且滿足0.02<ZrO₂/(SiO₂+Al₂O₃+B₂O₃)<0.12的條件。

另外，上述玻璃組成優選不含有BaO，優選經由化學強化工序進行制造。

發明的效果

本發明的玻璃基板通過具有上述構成而顯示出以下優異的效果：可以在具有適宜的物性值的同時以高拋光速率實現低表面粗糙度Ra。

具體實施方式

下面，對本發明進行更詳細的說明。

<玻璃基板>

本發明的玻璃基板的特征在于，該玻璃基板含有下述玻璃組成，該玻璃組成以摩爾％(mol％)表示具有

SiO₂：58％～74％、