[發明專利]自動化涂片制造裝置

有效

• 申請號: 201280062415.0
• 申請日: 2012-12-21
• 公開（公告）號: CN103998147B
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: 約翰·斯科特·沙夫納;科什·T.·查科;羅伊·所羅門
• 申請（專利權）人: 雅培制藥有限公司
• 主分類號: B05C1/14
• 分類號: B05C1/14
• 代理公司: 北京弘權知識產權代理事務所(普通合伙)11363
• 代理人: 王建國,苗麗娟

1.一種用于自動化載玻片制備裝置的涂抹子系統，所述涂抹子系統包括：

涂片盒，其包括

輸入盤；

收帶盤；

涂抹帶，其具有形成在其中的多個開孔，其中所述涂抹帶最初卷繞在所述輸入盤內并且耦合到所述收帶盤，以使得能夠將所述涂抹帶從所述輸入盤拉進所述收帶盤，以及

偏轉組件，其被配置成偏轉所述多個涂抹帶開孔中的每個以形成葉片，在將所述涂抹帶拉進所述收帶盤時所述葉片從所述涂抹帶延伸以暴露涂片表面；以及載玻片運送表面，其被配置成在暴露的涂片表面上移動載玻片；

其中在所述載玻片運送表面使所述載玻片與葉片的暴露的涂片表面接觸時，葉片的暴露的涂片表面與所述載玻片形成銳角，從而安置在載玻片上的一滴樣品接觸暴露的涂片表面。

2.如權利要求1所述的涂抹子系統，其進一步包括角度控制機構以調整在所述葉片的暴露的涂片表面與所述載玻片之間形成的所述銳角。

3.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構被配置成調整所述偏轉組件相對于所述輸入盤的位置。

4.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構被配置成調整所述偏轉組件相對于所述收帶盤的位置。

5.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構包括被配置成調整所述偏轉組件的步進電機。

6.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構被配置成調整所述輸入盤相對于所述偏轉組件的位置。

7.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構被配置成調整所述收帶盤相對于所述偏轉組件的位置。

8.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述銳角小于60度。

9.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述銳角小于45度。

10.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述銳角小于30度。

11.如權利要求2所述的涂抹子系統，其中所述銳角小于15度。

12.如權利要求1所述的涂抹子系統，其中所述偏轉組件包括輾桿。

13.如權利要求12所述的涂抹子系統，其中所述涂抹帶纏繞在所述輸入盤與所述收帶盤之間的所述輾桿上。

14.一種用于自動化載玻片制備裝置的涂抹子系統，所述涂抹子系統包括：

涂片盒，其包括

輸入盤；

第一偏轉組件和第二偏轉組件；

收帶盤；

涂抹帶，其中所述涂抹帶最初卷繞在所述輸入盤內并且耦合到所述收帶盤，以使得能夠將所述涂抹帶從所述輸入盤拉進所述收帶盤，并且其中將所述涂抹帶安置在所述輸入盤與所述收帶盤之間的所述第一偏轉組件和所述第二偏轉組件周圍，以使得所述涂抹帶的邊緣在所述第一偏轉組件與所述第二偏轉組件之間形成涂片表面；以及

載玻片運送表面，其被配置成在所述涂片表面上移動載玻片。

15.如權利要求14所述的涂抹子系統，其中所述第一偏轉組件和所述第二偏轉組件使所述涂抹帶彎曲，以使得在所述載玻片運送表面使所述載玻片與所述涂片表面接觸時，在所述涂抹帶與所述載玻片之間形成銳角。

16.如權利要求14至15中任一項所述的涂抹子系統，其進一步包括角度控制機構以調整所述涂抹帶在所述第一偏轉組件與所述第二偏轉組件之間的彎曲度。

17.如權利要求16所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構被配置成調整所述第一偏轉組件和所述第二偏轉組件中的一個的位置。

18.如權利要求16所述的涂抹子系統，其中所述角度控制機構被配置成調整所述第一偏轉組件和所述第二偏轉組件兩者的位置。

19.如權利要求14所述的涂抹子系統，其中所述第一偏轉組件和所述第二偏轉組件互相平行。

20.如權利要求14所述的涂抹子系統，其中所述載玻片運送表面的運動垂直于所述涂抹帶。

21.如權利要求15所述的涂抹子系統，其中所述銳角小于60度。

22.如權利要求15所述的涂抹子系統，其中所述銳角小于45度。