[發明專利]用于光刻法應用的近紅外線吸收膜組合物

在審

• 申請號: 201280061534.4
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN104040429A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發明（設計）人: D·戈德法布;M·格洛德;W·S·黃;金生剛;W·K·李;野田和美;大橋正樹;橘誠一郎
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司;信越化學工業株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 寧家成

1.一種用于光刻法的近紅外線(NIR)吸收膜組合物，其包含：

具有聚甲炔陽離子和可交聯陰離子的NIR吸收染料：

可交聯聚合物：及

交聯劑。

2.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其中所述可交聯陰離子為單價有機酸陰離子。

3.權利要求2的NIR吸收膜組合物，其中所述可交聯陰離子包括羥基、羧基、反應性醚、氨基或亞胺基團。

4.權利要求3的NIR吸收膜組合物，其中所述可交聯陰離子包括芳族基團。

5.權利要求4的NIR吸收膜組合物，其中所述可交聯陰離子具有以下結構：

其中S₁至S₅相同或不同，且各自獨立地代表氫原子、直鏈或支鏈烷基、直鏈或支鏈烷氧基或羥基，先決條件是S₁至S₅中至少一個為羥基。

6.權利要求5的NIR吸收膜組合物，其中所述可交聯陰離子選自下組：

7.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其中所述聚甲炔陽離子具有以下結構：

其中m和n相同或不同，且各自獨立地代表0至2的整數；Z代表氫原子，鹵原子，含有1至25個碳原子的直鏈、支鏈、環狀或多環的飽和或不飽和基團，其中該直鏈、支鏈、環狀或多環的飽和或不飽和基團任選包括一或多個選自氮、氧、硫和鹵原子的雜原子；X₁和X₂相同或不同，且各自獨立地代表氫原子，鹵原子，或含有1至6個碳原子的直鏈、支鏈或環狀基團，其中當X₁和X₂為含有1至6個碳原子的直鏈和支鏈基團時，它們可相互連接以形成五或六員環；R₁和R₂相同或不同，且各自獨立地代表含有1至6個碳原子的直鏈或支鏈烷基基團、含有1至6個碳原子的直鏈或支鏈烷氧烷基基團或含有1至6個碳原子的直鏈或支鏈羥烷基基團；D1和D2相同或不同，且各自獨立地代表-O-、-S-、-Se-、-CH＝CH-、-C(CH₃)₂-或-C-；且Z₁和Z₂相同或不同，且各自獨立地代表一或多個稠合的取代或未取代的芳香環，其中當D₁為-C-時，D₁與Z₁相互連接以形成一或多個稠合的取代或未取代的芳香環，和當D₂為-C-時，D₂與Z₂相互連接以形成一或多個稠合的取代或未取代的芳香環。

8.權利要求7的NIR吸收膜組合物，其中所述聚甲炔陽離子選自下組：

9.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其中所述NIR吸收染料在500納米和1200納米之間具有至少一個吸收峰。

10.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其中所述可交聯聚合物包括具有羥基、羧基、反應性醚、氨基或亞胺基團的單體單元。

11.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其進一步包含酸產生劑。

12.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其進一步包含澆注溶劑。

13.權利要求1的NIR吸收膜組合物，其中所述NIR吸收膜組合物為抗反射層組合物。