[發(fā)明專利]層疊體及層疊體的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280060435.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103988097A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 坂本寬;池田康宏;一色真誠(chéng);海田由里子 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 旭硝子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B1/11 | 分類號(hào): | G02B1/11;B32B3/30;B32B7/02;G02F1/1335;G06F3/041;H01B5/14;H01B13/00;H01L31/04;H01L51/50;H05B33/28 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會(huì)華 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 層疊 制造 方法 | ||
1.一種層疊體,其特征在于,該層疊體具有:
防反射結(jié)構(gòu)體,其表面具有周期性的凹凸部;以及
透明導(dǎo)電膜,其形成在上述凹凸部上,
除最外側(cè)的凸部以外的任意的凸部與距該任意的凸部的距離的合計(jì)最短的6個(gè)凸部配置為:(1)在該6個(gè)凸部中的4個(gè)上述凸部的每一者與上述任意的凸部之間存在有連結(jié)部,該連結(jié)部在比凸部的頂點(diǎn)低且比凹部的底點(diǎn)高的位置將凸部彼此連結(jié),(2)在該6個(gè)凸部中的剩余的兩個(gè)上述凸部的每一者與上述任意的凸部之間存在有凹部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,
沿著以上述任意的凸部為中心交叉的3個(gè)方向中的兩個(gè)方向交替配置有上述凸部與上述連結(jié)部,沿著剩余的一個(gè)方向交替配置有上述凸部與上述凹部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的層疊體,其中,
上述凸部呈正六方格子狀周期性配置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的層疊體,其中,
上述凸部呈正四方格子狀周期性配置。
5.一種顯示裝置,其中,
該顯示裝置具有層疊金屬電極層、發(fā)光層、透明電極層以及透明基板而成的結(jié)構(gòu),
上述透明電極層由權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的層疊體形成。
6.一種照明裝置,其中,
該照明裝置具有層疊金屬電極層、發(fā)光層、透明電極層以及透明基板而成的結(jié)構(gòu),
上述透明電極層由權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的層疊體形成。
7.一種太陽(yáng)能電池,其中,
該太陽(yáng)能電池具有層疊金屬電極層、發(fā)電層、透明電極層以及透明基板而成的結(jié)構(gòu),
上述透明電極層由權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的層疊體形成。
8.一種層疊體的制造方法,其特征在于,該層疊體的制造方法具有以下工序:
使用表面具有周期性的凹凸部的原模制造表面具有周期性的凹凸部的防反射結(jié)構(gòu)體的工序;以及
在上述防反射結(jié)構(gòu)體的上述凹凸部上形成透明導(dǎo)電膜的工序,
在上述原模中,除最外側(cè)的凸部以外的任意的凸部與距該任意的凸部的距離的合計(jì)最短的6個(gè)凸部配置為:(1)在該6個(gè)凸部中的4個(gè)上述凸部的每一者與上述任意的凸部之間存在有連結(jié)部,該連結(jié)部在比凸部的頂點(diǎn)低且比凹部的底點(diǎn)高的位置將凸部彼此連結(jié),(2)在該6個(gè)凸部中的剩余的兩個(gè)上述凸部的每一者與上述任意的凸部之間存在有凹部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的層疊體的制造方法,其中,
沿著以上述任意的凸部為中心交叉的3個(gè)方向中的兩個(gè)方向交替配置有上述凸部與上述連結(jié)部,沿著剩余的一個(gè)方向交替配置有上述凸部與上述凹部。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的層疊體的制造方法,其中,
該層疊體的制造方法還具有制造上述原模的工序,
該工序包括以下工序:
在基體上形成抗蝕膜的工序;
在該抗蝕膜的表面上曝光光強(qiáng)度沿著第1方向發(fā)生變化的第1干涉條紋的工序;
在該抗蝕膜的表面上曝光光強(qiáng)度沿著與上述第1方向交叉的第2方向發(fā)生變化的第2干涉條紋的工序;以及
在上述第1干涉條紋及上述第2干涉條紋曝光之后使上述抗蝕膜顯影的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的層疊體的制造方法,其中,
上述第1方向與上述第2方向所成的角度為60°。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的層疊體的制造方法,其中,
上述第1方向與上述第2方向所成的角度為90°。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于旭硝子株式會(huì)社,未經(jīng)旭硝子株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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