[發(fā)明專利]用于對基質(zhì)進行涂覆的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280060284.2
• 申請日: 2012-12-06
• 公開（公告）號: CN104136651A
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: P.埃恩斯特;J.維普夫;T.勒肯
• 申請（專利權(quán)）人: 喬治費歇爾汽車產(chǎn)品（蘇州）有限公司;喬治費歇爾有限責(zé)任兩合公司;喬治費歇爾壓鑄有限責(zé)任兩合公司;喬治費歇爾有限責(zé)任公司
• 主分類號: C23C4/12
• 分類號: C23C4/12;C23C4/16;C23C4/18;C23C26/00;B05B7/22;B05B13/06;H05H1/44;C23C4/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 宣力偉;譚祐祥

1.用于對基質(zhì)進行涂覆的方法，其中借助熱噴涂將原始材料（P）以工藝射束（2）的形式噴涂到所述基質(zhì)（10）的表面上，其特征在于，首先在沒有材料涂層的情況下用等離子噴涂設(shè)備（3；3’）的等離子火焰（2’）對所述基質(zhì)（10）的表面進行預(yù)處理并且隨后以包含所述原始材料（P）的工藝射束（2）施涂到所述表面上。

2.按權(quán)利要求1所述的方法，其中所述基質(zhì)（10）是金屬的。

3.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述原始材料（P）是金屬的或者陶瓷的材料。

4.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述熱噴涂是等離子噴涂。

5.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，所述方法在比大氣壓力小的工藝壓力下實施。

6.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中用于產(chǎn)生所述工藝射束（2）的熱噴涂裝置（3）和等離子噴涂設(shè)備（3’）共同在時間上或者空間上相對于所述基質(zhì)（10）的表面錯開地運動，使得所述等離子火焰（2’）首先對所述表面的區(qū)域（B）進行預(yù)處理并且隨后在能夠預(yù)先給定的時間段之后以所述工藝射束（2）施涂到相同的區(qū)域（B）上。

7.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中在沒有材料涂層的情況下用所述等離子噴涂設(shè)備（3）對所述基質(zhì)（10）的表面進行預(yù)處理并且隨后用相同的等離子噴涂設(shè)備（3）產(chǎn)生用于所述涂覆的工藝射束（2）。

8.按權(quán)利要求7所述的方法，其中用于預(yù)處理的所述等離子火焰（2’）基本上以與用于產(chǎn)生所述工藝射束（2）的等離子火焰相同的等離子參數(shù)、尤其相同的電流、相同的氣體和相同的氣流率產(chǎn)生。

9.按權(quán)利要求7或8中任一項所述的方法，其中所述等離子噴涂設(shè)備（3、3’）的排出噴嘴（7、7’）與所述基質(zhì)（10）的表面之間的間距（D）對于所述預(yù)處理和以所述工藝射束（2）進行施涂來說是一樣大小的。

10.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述預(yù)處理與以所述工藝射束（2）對相同的區(qū)域（B）進行施涂之間的時間段最多為五分鐘。

11.按上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述預(yù)處理與以所述工藝射束（2）對相同的區(qū)域（B）進行施涂之間的時間段最多為一分鐘。