[發明專利]帶電粒子束照射系統

有效

• 申請號: 201280056763.7
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN103957996A
• 公開（公告）日: 2014-07-30
• 發明（設計）人: 矢島曉
• 申請（專利權）人: 住友重機械工業株式會社
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10;G21K5/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種帶電粒子束照射系統，其對被照射體照射帶電粒子束，其特征在于，具備：

加速器，其使帶電粒子加速并射出帶電粒子束；

支架，其配置有對所述被照射體照射帶電粒子束的照射部；

傳輸線路，其具有從由所述加速器射出的具有第1能量寬度的帶電粒子束取出比所述第1能量寬度小的第2能量寬度的帶電粒子束的能量選擇系統，并將帶電粒子束從所述加速器向所述照射部傳輸；及

建筑物，其具有配置有所述支架的照射室及配置有所述傳輸線路的一部分的別室，

所述加速器配置于所述照射室內，

所述傳輸線路中所述能量選擇系統配置于所述別室內，

所述建筑物具有將所述照射室與所述別室隔開，并屏蔽從所述能量選擇系統放出的放射線的間壁墻。

2.根據權利要求1所述的帶電粒子束照射系統，其中，

配置有所述能量選擇系統的所述別室位于所述支架的背面側。

3.根據權利要求1或2所述的帶電粒子束照射系統，其中，

在所述支架與所述加速器之間設置有屏蔽從所述加速器朝向所述支架的放射線的屏蔽部件。

4.根據權利要求1～3中任意一項所述的帶電粒子束照射系統，其中，

所述支架為以中心軸線為中心進行旋轉或擺動的機架，

所述支架配置成，在所述照射室中隔著所述支架而相對置的一對側壁與所述中心軸線大致平行。