[發明專利]通過UV輻射用于在介質中產生活性物類的系統和方法

無效

• 申請號: 201280056501.0
• 申請日: 2012-11-13
• 公開（公告）號: CN103945872A
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: R·L·格雷
• 申請（專利權）人: 高爽工業公司
• 主分類號: A61L2/10
• 分類號: A61L2/10;A61L2/00
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 李婉婉;張苗

1.一種用于衛生處理制品的系統，所述系統包含：

朝向所述制品發射的紫外光，所述紫外光發射在122-230nm之間的頻率的光；和

圍繞所述制品分散并且與所述發射的紫外光交叉的介質，其中所述介質與所述光的頻率相互作用，以產生活性氧物類，該活性氧物類消除所述制品上的微生物。

2.根據權利要求1所述的系統，所述系統還包含：

部分封閉的室，其攜帶所述紫外光并且含有所述介質。

3.根據權利要求2所述的系統，其中所述介質選自由以下組成的組：空氣、氧、水、醇、水和醇的混合物、和氮。

4.根據權利要求2所述的系統，其中所述介質包含至少兩種取代物，其中一種為氮氣。

5.根據權利要求2所述的系統，其中所述光的頻率為180-195nm。

6.根據權利要求2所述的系統，其中所述介質包含至少兩種取代物，其中一種為氮氣，并且其中所述光的頻率為180-195nm。

7.根據權利要求6所述的系統，其中另一種取代物為醇，并且所述光的頻率為180nm。

8.根據權利要求2所述的系統，其中所述光的頻率為195-230nm。

9.根據權利要求2所述的系統，其中所述介質包含至少兩種取代物，其中一種為氮氣，并且其中所述光的頻率為195-230nm。

10.根據權利要求2所述的系統，其中所述介質為通過暴露于真空UV光預處理的水。

11.根據權利要求2所述的系統，所述系統還包含：

噴嘴，以在所述部分封閉的室內分散所述介質。

12.根據權利要求11所述的系統，其中所述噴嘴包含霧化所述介質的壓電噴嘴。

13.根據權利要求2所述的系統，其中所述介質基本上為氮，并且所述光的頻率為約188納米。

14.一種用于衛生處理制品的方法，所述方法包括：

朝向所述制品發射紫外光，所述紫外光具有在122-230nm之間的頻率的光；和

圍繞所述制品和所述紫外光布置介質，其中將所述介質和所述紫外光混合，以產生活性氧物類，該活性氧物類與所述制品上的微生物接觸并且殺滅所述制品上的所述微生物。

15.根據權利要求14所述的方法，所述方法還包括：

提供室以至少部分地封閉所述紫外光和所述介質，所述室具有至少一個開口，以允許所述制品的進入和離開。

16.根據權利要求15所述的方法，所述方法還包括：

通過所述室運輸所述制品。

17.根據權利要求15所述的方法，所述方法還包括：

調節所述紫外光的頻率或所述介質的濃度中的至少一個，以優化對所選的微生物的殺滅效率。

18.根據權利要求17所述的方法，所述方法還包括：

圍繞所述制品布置第二介質，其中第一和第二介質二者和所述紫外光產生活性氧物類。

19.根據權利要求15所述的方法，所述方法還包括：

調節所述紫外光的頻率至180-195nm之間。

20.根據權利要求15所述的方法，所述方法還包括：

為所述室提供有至少一個被可偏轉板條覆蓋的開口。

21.根據權利要求15所述的方法，所述方法還包括：

朝向所述制品發射約188nm的紫外光頻率；和

圍繞所述制品分配基本上為氮的介質。

22.根據權利要求14所述的方法，其中所述分配包括：

通過噴嘴分配所述介質，以形成暴露于所述紫外光的液滴。

23.根據權利要求22所述的方法，其中所述分配包括：

通過壓電噴嘴分配所述介質，以形成暴露于所述紫外光的霧化的液滴。

24.根據權利要求14所述的方法，所述方法還包括：

通過暴露于真空UV光預處理所述介質。