[發(fā)明專利]一種測試具有浮動?xùn)艠O的非易失性存儲器單元的數(shù)據(jù)保持的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280055415.8 | 申請日: | 2012-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN103988281A | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | V·馬科夫;J·尤;S·班薩爾;A·科托夫 | 申請(專利權(quán))人: | 硅存儲技術(shù)公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 馬麗娜;胡莉莉 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 測試 具有 浮動 柵極 非易失性存儲器 單元 數(shù)據(jù) 保持 方法 | ||
1.一種測試非易失性存儲器單元的方法,該存儲器單元具有用于在其上存儲電荷的浮動?xùn)艠O,其中所述方法用于如果存儲器單元具有依賴于該浮動?xùn)艠O的電壓的絕對值的來自該浮動?xùn)艠O的漏電流就測試該存儲器單元,其中所述單元的特征在于在正常操作期間施加的第一擦除電壓、第一編程電壓與第一讀取電壓,以及在正常操作期間檢測到的擦除的存儲器單元的第一讀取電流,其中所述方法包括:
施加大于該第一擦除電壓的電壓來過度擦除該浮動?xùn)艠O;
使包括該浮動?xùn)艠O的該存儲器單元經(jīng)受單一高溫烘烤;以及
通過施加低于該第一讀取電壓的讀取電壓來測試該浮動?xùn)艠O的數(shù)據(jù)保持。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述存儲器單元的特征在于:
第一導(dǎo)電類型的并且具有頂表面的單晶襯底;
在所述襯底中沿著該頂表面的第二導(dǎo)電類型的第一區(qū)域;
第二導(dǎo)電類型的第二區(qū)域,其在所述襯底中沿著該頂表面,與該第一區(qū)域間隔開;
在該第一區(qū)域與該第二區(qū)域之間的溝道區(qū)域;
位于該溝道區(qū)域的第一部分之上的字線柵極,其通過第一絕緣層與該溝道區(qū)域間隔開;
位于該溝道區(qū)域的另一部分之上的浮動?xùn)艠O,其與該字線柵極相鄰且分開,其中該浮動?xùn)艠O通過第二絕緣層與該溝道區(qū)域分開;
位于該浮動?xùn)艠O之上并通過第三絕緣層與其絕緣的耦合柵極;以及
擦除柵極,其被定位成與該浮動?xùn)艠O相鄰且在與該字線柵極相對的側(cè);所述擦除柵極位于該第二區(qū)域之上并且與其絕緣。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中如果在所述經(jīng)受步驟之后該存儲器單元的讀取電流低于讀取參考電流,則所述測試步驟確定該存儲器單元是有缺陷的。
4.一種測試非易失性存儲器單元的方法,該存儲器單元具有用于在其上存儲電荷的浮動?xùn)艠O,其中所述方法用于如果存儲器單元具有依賴于該浮動?xùn)艠O的電壓的絕對值的來自該浮動?xùn)艠O的漏電流則測試該存儲器單元,其中所述單元的特征在于在正常操作期間施加的第一擦除電壓、第一編程電壓和第一讀取電壓,以及在正常操作期間檢測的編程的存儲器單元的第一讀取電流,其中所述方法包括:
施加大于該第一編程電壓的電壓來將該浮動?xùn)艠O過度編程;
使包括該浮動?xùn)艠O的該存儲器單元經(jīng)受單一高溫烘烤;以及
通過施加大于該第一讀取電壓的讀取電壓來測試該浮動?xùn)艠O的數(shù)據(jù)保持。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中所述存儲器單元的特征在于:
第一導(dǎo)電類型并且具有頂表面的單晶襯底;
在沿著該頂表面的所述襯底中的第二導(dǎo)電類型的第一區(qū)域,
第二導(dǎo)電類型的第二區(qū)域,其在所述襯底中沿著所述頂表面,與該第一區(qū)域間隔開;
在該第一區(qū)域與該第二區(qū)域之間的溝道區(qū)域;
位于該溝道區(qū)域的第一部分之上的字線柵極,其通過第一絕緣層與該溝道區(qū)域間隔開;
位于該溝道區(qū)域的另一部分之上的浮動?xùn)艠O,其與該字線柵極相鄰且分開,其中該浮動?xùn)艠O通過第二絕緣層與該溝道區(qū)域分開;
位于該浮動?xùn)艠O之上并且通過第三絕緣層與其絕緣的耦合柵極;以及
擦除柵極,其被定位成與該浮動?xùn)艠O相鄰且在與該字線柵極相對的側(cè);所述擦除柵極位于該第二區(qū)域之上并且與其絕緣。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中如果在所述經(jīng)受步驟之后該存儲器單元的讀取電流高于讀取參考電流,則所述測試步驟確定該存儲器單元是有缺陷的。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





