[發(fā)明專利]用于調節(jié)衛(wèi)星姿態(tài)的方法和姿態(tài)受控的衛(wèi)星

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280054916.4
• 申請日: 2012-09-19
• 公開（公告）號: CN103917451A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設計）人: 貝納德·波勒
• 申請（專利權）人: 阿斯特里姆有限公司
• 主分類號: B64G1/26
• 分類號: B64G1/26;B64G1/28;B64G1/40
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 王萍;李春暉

1.一種用于調節(jié)在天體周圍軌道中的衛(wèi)星(10)的姿態(tài)的方法(50)，所述衛(wèi)星(10)的姿態(tài)是借助于角動量存儲裝置(16)并借助于所述衛(wèi)星(10)的可控表面來被調節(jié)的，其中所述可控表面適于通過利用太陽光壓產(chǎn)生使所述存儲裝置(16)去飽和的力矩(C_S)，所述可控表面被布置在能夠繞Y軸旋轉移動的移動太陽能板(12a，12b)上，其特征在于，所述衛(wèi)星(10)的姿態(tài)還借助于也被用于調節(jié)所述衛(wèi)星(10)的軌道的至少一個電推進器(14a，14b)來被調節(jié)，所述至少一個電推進器(14a，14b)的取向被控制從而以推進方向激活所述至少一個電推進器(14a，14b)，其中該推進方向刻意地不與所述衛(wèi)星(10)的質心對齊從而產(chǎn)生沿所述Y軸的使所述存儲裝置(16)去飽和的力矩(C_Y)，所述可控表面(12a，12b)被控制以在垂直于所述Y軸的平面中產(chǎn)生使所述存儲裝置去飽和的力矩(C_S)。

2.如權利要求1所述的方法(50)，其特征在于，其包括：

-用于控制所述至少一個電推進器(14a，14b)以產(chǎn)生具有使所述存儲裝置(16)去飽和的分量(C_Y)的力矩(C_E)的步驟(51)，其中所述分量(C_Y)適于補償在干擾力矩的影響下沿所述Y軸而被存儲的全部或部分角動量；

-用于控制所述存儲裝置(16)以對由所述至少一個電推進器(14a，14b)所產(chǎn)生的力矩(C_E)進行補償?shù)牟襟E(52)；

-用于控制所述可控表面(12a，12b)以產(chǎn)生使所述存儲裝置(16)去飽和的力矩(C_S)的步驟(53)，所述力矩(C_S)適于補償在由所述至少一個電推進器(14a，14b)所產(chǎn)生的力矩(C_E)的影響下被存儲在垂直于所述Y軸的平面中的全部或部分角動量；

-用于控制所述存儲裝置(16)以補償由所述可控表面(12a，12b)所產(chǎn)生的去飽和力矩(C_S)的步驟(54)。

3.如權利要求2所述的方法(50)，其特征在于，在用于控制所述至少一個電推進器的步驟(51)期間和用于控制所述可控表面的步驟(53)期間所產(chǎn)生的去飽和力矩(C_Y，C_S)適于將隨時間而被存儲在所述存儲裝置(16)中的角動量的偏移限制在預定值之間。

4.如權利要求2至3之一所述的方法(50)，其特征在于：

-同時執(zhí)行用于控制所述至少一個電推進器的步驟(51)和用于控制所述存儲裝置(16)以補償由所述至少一個電推進器所產(chǎn)生的力矩(C_E)的步驟(52)；和/或

-同時執(zhí)行用于控制所述可控表面(12a，12b)的步驟(52)和用于控制所述存儲裝置(16)以補償由所述可控表面所產(chǎn)生的所述去飽和力矩(C_S)的步驟(54)。

5.如上述權利要求之一所述的方法(50)，其特征在于，所述可控表面包括所述太陽能板(12a，12b)的感光表面，并且由所述可控表面產(chǎn)生的所述去飽和力矩(C_S)是通過所述太陽能板繞所述Y軸旋轉而產(chǎn)生的。

6.如上述權利要求之一所述的方法(50)，其特征在于，所述可控表面包括連接到所述太陽能板(12a，12b)且相對于所述太陽能板傾斜的側翼表面，并且由所述可控表面產(chǎn)生的所述去飽和力矩(C_S)是通過所述太陽能板(12a，12b)繞所述Y軸旋轉而產(chǎn)生的。

7.如上述權利要求之一所述的方法(50)，其特征在于，所述可控表面包括具有可控光學特性的表面(122)，并且由所述可控表面產(chǎn)生的所述去飽和力矩(C_S)是通過修改所述可控表面的光學特性而產(chǎn)生的。

8.如上述權利要求之一所述的方法(50)，其特征在于，所述至少一個電推進器(14a，14b)被控制從而只沿所述Y軸而產(chǎn)生去飽和力矩(C_Y)。