[發明專利]光學反射膜及使用該光學反射膜的光學反射體有效
| 申請號: | 201280053321.7 | 申請日: | 2012-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN103917900A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | 久光聰史 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/28 | 分類號: | G02B5/28;B32B27/30;G02B5/08;G02B5/26 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 反射 使用 | ||
1.一種光學反射膜,其在基體材料上含有至少一個疊層高折射率層和低折射率層而成的單元,其中,
所述高折射率層及所述低折射率層均含有至少一種聚乙烯醇,
將所述高折射率層中含量最高的聚乙烯醇設為聚乙烯醇(A)、將所述低折射率層中含量最高的聚乙烯醇設為聚乙烯醇(B)時,
所述聚乙烯醇(A)的皂化度和聚乙烯醇(B)的皂化度不同。
2.根據權利要求1所述的光學反射膜,其中,所述高折射率層及所述低折射率層中的至少一者還含有金屬氧化物粒子,所述高折射率層和所述低折射率層的折射率差為0.1以上。
3.根據權利要求1或2所述的光學反射膜,其中,所述聚乙烯醇(A)和所述聚乙烯醇(B)的皂化度之差為3mol%以上。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的光學反射膜,其中,所述聚乙烯醇(A)及所述聚乙烯醇(B)中的一者的皂化度為90mol%以上,另一者的皂化度比該皂化度為90mol%以上的聚乙烯醇的皂化度低。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的光學反射膜,其中,所述聚乙烯醇(A)及所述聚乙烯醇(B)中至少一者的聚合度為2000以上且5000以下。
6.根據權利要求1~5中任一項所述的光學反射膜,其中,所述聚乙烯醇(B)的皂化度為75mol%以上且90mol%以下,并且聚合度為2000以上且5000以下。
7.根據權利要求1~6所述的光學反射膜,其中,所述聚乙烯醇(A)及所述聚乙烯醇(B)的聚合度均為2000以上且5000以下。
8.根據權利要求1~7中任一項所述的光學反射膜,其中,所述高折射率層及所述低折射率層中的至少一者含有聚合度為100以上且1000以下、并且皂化度為95mol%以上的低聚合度高皂化聚乙烯醇。
9.根據權利要求1~8中任一項所述的光學反射膜,其中,除所述聚乙烯醇(A)及聚乙烯醇(B)以外,高折射率層及低折射率層中的任一者還含有皂化度為90mol%以上的聚乙烯醇。
10.根據權利要求10所述的光學反射膜,其中,高折射率層及低折射率層這兩者均還含有皂化度為90mol%以上的聚乙烯醇。
11.根據權利要求1~10中任一項所述的光學反射膜,其中,所述高折射率層及所述低折射率層中的至少一者還含有改性聚乙烯醇。
12.根據權利要求1~11中任一項所述的光學反射膜,其中,所述聚乙烯醇(A)的含量為高折射率層的總固體成分的10質量%以上,且所述聚乙烯醇(B)的含量為低折射率層的總固體成分的10質量%以上。
13.根據權利要求1~12中任一項所述的光學反射膜,其是通過同時疊層涂布而制造的。
14.一種光學反射體,其在基體的至少一面設置有權利要求1~13中任一項所述的光學反射膜。
15.一種光學反射膜的制造方法,其是制造權利要求1~14中任一項所述的光學反射膜的方法,該方法包括下述工序:
在基體材料上同時疊層涂布高折射率層涂布液和低折射率層涂布液,然后進行干燥,形成包含高折射率層和低折射率層的光學反射膜。
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