[發明專利]等離子體噴射方法

無效

• 申請號: 201280052953.1
• 申請日: 2012-10-02
• 公開（公告）號: CN103890222A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 林德·施拉姆;克萊門斯·瑪麗亞·韋普特;大衛·庫克
• 申請（專利權）人: 福特全球技術公司
• 主分類號: C23C4/12
• 分類號: C23C4/12;C23C4/16
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 王占杰

1.一種通過熱噴射尤其是通過等離子體噴射制造涂層的方法，其中，利用合金對組件、尤其是氣缸套進行內部涂覆，其中，將等離子體氣體(5)供給等離子體噴嘴(3)，并且將輸送氣體(9)供給輔助噴嘴(11)，所述等離子體噴嘴(3)和所述輔助噴嘴(11)圍繞絲線(4)旋轉并能夠沿著孔(16)的縱軸線移動，從而如從內部看到的，所述孔(16)被全方位涂覆且沿所述孔(16)的軸向被涂覆，

其中，

所述輸送氣體(9)和/或所述等離子體氣體(5)的可變氣流或可變流率能夠在待涂覆的孔(16)的軸向長度(x)上被調節。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述等離子體噴射是PTWA內部涂覆。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述絲線(4)是均質絲線。

4.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，利用所述等離子體氣體(5)和/或所述輸送氣體(9)的高流率能夠在涂層中調節低孔隙率。

5.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，上止點區域(12)中的流率值小，例如為450l/min。

6.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，上蓋區域(10)和中間區域(13)中的流率值大，例如為1100l/min。

7.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，設有控制元件，所述控制元件根據等離子體噴射裝置(1)在所述孔(16)內的軸向位置來控制所述等離子體氣體(5)和/或所述輸送氣體(9)的流率，其中，所述控制元件能夠被實施為電磁閥。

8.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，所述輸送氣體(9)和/或所述等離子體氣體(5)的可變氣流或可變流率在涂覆操作過程中能夠根據在待涂覆的孔(16)內部的軸向位置可變地設定。