[發明專利]形成n型摻雜半導體基板的p型摻雜鋁表面區域的方法無效
| 申請號: | 201280052909.0 | 申請日: | 2012-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103907198A | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發明(設計)人: | K·W·杭;A·G·普林斯;M·羅斯;R·J·S·揚 | 申請(專利權)人: | E.I.內穆爾杜邦公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 江磊 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 形成 摻雜 半導體 表面 區域 方法 | ||
1.用于形成n型半導體基板的至少一個p型摻雜鋁表面區域的方法,所述方法包括以下步驟:
(1)提供n型半導體基板,
(2)在所述n型半導體基板的至少一個表面區域上施加并干燥鋁漿,
(3)焙燒所述干燥過的鋁漿,以及
(4)用水除去所述焙燒過的鋁漿,
其中在步驟(2)中使用的所述鋁漿包含粒狀鋁、有機載體和基于總鋁漿組合物計3至20重量%的玻璃料。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述n型半導體基板選自n型摻雜結晶鍺半導體基板、n型摻雜結晶鍺-硅合金半導體基板和n型摻雜結晶硅半導體基板。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述n型半導體基板是n型太陽能電池晶片,其中所述n型半導體基板的至少一個表面區域是n型太陽能電池晶片的一個或多個表面區域,并且其中所述n型太陽能電池晶片的一個或多個表面區域是將設有p型發射器的那個/那些表面區域。
4.根據權利要求3所述的方法,其中所述n型太陽能電池晶片選自n型結晶鍺太陽能電池晶片、n型結晶鍺-硅合金太陽能電池晶片和n型結晶硅太陽能電池晶片。
5.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述粒狀鋁在所述鋁漿中以基于總鋁漿組合物計50至80重量%的比例存在。
6.根據權利要求1、2或5所述的方法,其中所述玻璃料是硅鋁酸鹽玻璃或硼硅酸鹽玻璃。
7.根據權利要求1、2、5或6所述的方法,其中在所述鋁漿中的有機載體含量基于總鋁漿組合物計為20至45重量%。
8.具有至少一個p型摻雜鋁表面區域的n型半導體基板由根據權利要求1、2、5、6或7所述的方法制備。
9.根據權利要求3或4所述的方法,其中所述粒狀鋁在所述鋁漿中以基于總鋁漿組合物計50至80重量%的比例存在。
10.根據權利要求3、4或9所述的方法,其中所述玻璃料是硅鋁酸鹽玻璃或硼硅酸鹽玻璃。
11.根據權利要求3、4、9或10所述的方法,其中在所述鋁漿中的有機載體含量基于總鋁漿組合物計為20至45重量%。
12.具有一個或多個p型發射器的n型太陽能電池晶片由根據權利要求3、4、9、10或11所述的方法制備。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





