[發明專利]投射裝置

有效

• 申請號: 201280052703.8
• 申請日: 2012-10-12
• 公開（公告）號: CN103890640A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 倉重牧夫
• 申請（專利權）人: 大日本印刷株式會社
• 主分類號: G02B27/48
• 分類號: G02B27/48;G03B21/00;H04N5/74
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 何欣亭;王忠忠

1.一種投射裝置，其特征在于，具備：

光學元件，能使相干光漫射；

照射裝置，以相干光在所述光學元件上掃射的方式將相干光照射至所述光學元件；

光調制器，使用從所述照射裝置入射至所述光學元件的各位置而被漫射的相干光來生成調制圖像；以及

投射光學系統，將由所述光調制器生成的調制圖像投射至漫射面，

所述光調制器具有：

微鏡，多個所述微鏡對應各像素而設置，切換來自所述光學元件的相干光的反射角度；以及

反射角度控制部，進行控制，使得在每個作為生成所述調制圖像的時間單位的幀期間、切換多個所述微鏡的反射角度的定時變得無規律。

2.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述反射角度控制部進行控制，使得由多個所述微鏡的各個反射的相干光入射至所述投射光學系統的定時在每個幀期間變得無規律。

3.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，

所述照射裝置在1幀期間內按照順序切換波長帶不同的多個相干光并使該相干光在所述光學元件上掃射，

所述反射角度控制部對所述多個相干光的各個進行控制，使得切換多個所述微鏡的反射角度的定時在每個幀期間變得無規律。

4.如權利要求3所述的投射裝置，其特征在于，

多個所述微鏡對各像素分別以有2個以上的方式而設置，

分別將波長帶不同的所述相干光入射至對各像素設置多個的所述微鏡的各個，

所述反射角度控制部對所述多個相干光的各個進行控制，使得切換對應的微鏡的反射角度的定時在每個幀期間變得無規律。

5.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，

所述照射裝置，在1幀期間內使波長帶不同的多個相干光同時在所述光學元件上掃射，

所述光調制器，具有入射由所述光學元件漫射的波長帶分別不同的所述相干光的多個光調制部，

所述多個光調制部的各個具有多個所述微鏡，

所述反射角度控制部對所述多個光調制部的各個進行控制，使得切換對應的多個所述微鏡的反射角度的定時在每個幀期間變得無規律。

6.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述光學元件是表面上的各點能夠將參照部件的像再現于所述光調制器的位置的全息圖記錄介質。

7.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述光學元件是微透鏡陣列。

8.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述照射裝置具有：

多個光源，分別放射波長帶不同的相干光；以及

掃射器件，使從所述多個光源放射的所述相干光的行進方向變化，使該相干光在所述光學元件上掃射。