[發明專利]光學器件、特別是用于計算式攝像機的模塊的晶片級制造有效
| 申請號: | 201280052516.X | 申請日: | 2012-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN103890949A | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發明(設計)人: | H.魯德曼恩;M.馬魯克;A.比伊特施;P.羅恩特根;S.海姆加特納 | 申請(專利權)人: | 七邊形微光學私人有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉 |
| 地址: | 新加坡*** | 國省代碼: | 新加坡;SG |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 器件 特別是 用于 算式 攝像機 模塊 晶片 制造 | ||
1.一種包括光學構件和隔離構件的器件,所述光學構件包括N≥2組無源光學部件,每組無源光學部件包括一個或多個無源光學部件,所述隔離構件包括N個光通道,所述N個光通道中的每一個與所述N組無源光學部件中的一組相關聯,其中,所述N個光通道的全部都具有至少基本上相同的幾何長度,并且其中所述N個光通道中的第一個的光路長度不同于所述N個光通道中的至少一個第二個的光路長度。
2.根據權利要求1所述的器件,其中,所述隔離構件相對于所述光學構件被固定。
3.根據權利要求1或權利要求2所述的器件,其中,所述隔離構件被以這樣的方式結構化,即所述N個光通道的全部都具有至少基本上相同的幾何長度,并且所述N個光通道中的第一個的光路長度不同于所述N個光通道中的至少一個第二個的光路長度,特別地其中,所述隔離構件被以所述方式成形。
4.根據權利要求1至3中的一項所述的器件,其中,對于所述N個光通道中的每一個,所述光路長度具有與各相關聯光學構件的制造不規則性,特別是各相關聯光學構件的無源光學部件組的無源光學部件的制造不規則性,有關的值和/或根據所述制造不規則性而被選擇。
5.根據權利要求4所述的器件,所述光學構件包括至少一個透鏡元件,所述制造不規則性包括所述至少一個透鏡元件的特性量值與標稱值的偏差。
6.根據權利要求5所述的器件,所述標稱值是所述至少一個透鏡元件的焦距。
7.根據權利要求1至6中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的每一個和其各相關聯的無源光學部件組被相對于彼此布置成使得從對象側撞擊在一組無源光學部件上的光能夠通過各相關聯光通道橫穿所述隔離構件。
8.根據權利要求1至7中的一項所述的器件,其中,所述光通道相互分離,特別地在光學上相互分離。
9.根據權利要求1至8中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的至少一個包括在所述隔離構件中的開口。
10.根據權利要求1至9中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的至少一個不是所述隔離構件中的通孔。
11.根據權利要求1至10中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的至少一個包括所述隔離構件中的盲孔,特別地其中所述至少一個盲孔被設置成有助于實現所述N個光通道中的所述至少一個與光通道中的至少一個第二個之間的所述光路長度差。
12.根據權利要求1至11中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的至少兩個包括所述隔離構件中的盲孔,特別地其中,對于所述N個光通道中的所述至少兩個中的每一個,各盲孔的長度與各光通道的光路長度有關,更特別地其中,所述至少兩個盲孔中的第一個的長度不同于所述至少兩個盲孔中的第二個的長度。
13.根據權利要求1至11中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的至少一個包括非氣體透明材料的一部分。
14.根據權利要求1至13中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的每一個包括非氣體透明材料的一部分。
15.根據權利要求1至14中的一項所述的器件,其中,所述N個光通道中的至少一個包括固體透明材料的一部分。
16.根據權利要求1至15中的一項所述的器件,其中,在所述N個光通道中的至少一個中,至少一個透鏡元件被形成,特別地其中,所述至少一個透鏡元件被設置成有助于實現所述N個光通道中的所述至少一個與光通道中的至少一個第二個之間的所述光路長度差。
17.根據權利要求16所述的器件,其中,所述至少一個透鏡元件在所述N個光通道中的所述至少一個中的盲孔中形成。
18.根據權利要求1至17中的一項所述的器件,其中,所述隔離構件包括由相互不同的材料制成的第一層和第二層,特別地其中,所述第二層由聚合物材料制成和/或所述第一層由玻璃或由不同的聚合物材料制成。
19.根據權利要求18所述的器件,其中,所述光通道中的每一個中的所述第二層的豎向延伸與各相關聯光學構件的制造不規則性有關或者根據所述制造不規則性而被選擇。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于七邊形微光學私人有限公司,未經七邊形微光學私人有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201280052516.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





