[發明專利]電子顯微法的觀察樣品、電子顯微法、電子顯微鏡以及觀察樣品制作裝置

有效

• 申請號: 201280051975.6
• 申請日: 2012-10-16
• 公開（公告）號: CN103907004B
• 公開（公告）日: 2016-10-26
• 發明（設計）人: 三羽貴文;小瀨洋一;中澤英子;許斐麻美;渡邊俊哉;木村嘉伸;津野夏規
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;G01B15/02;H01J37/20;H01J37/28
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王亞愛

1.一種電子顯微法的觀察樣品，包括：

試料；和

處于上述試料上的薄膜狀或者網膜狀的包含離子液體的液狀介質。

2.根據權利要求1所述的電子顯微法的觀察樣品，其特征在于，

將上述離子液體的1分子層的厚度設為1單層，

涂敷有包含上述離子液體的液狀介質的部分的膜厚是1單層以上、100單層以下。

3.一種電子顯微法，其特征在于，包括以下工序：

測量試料上的薄膜狀或者網膜狀的包含離子液體的液狀介質的膜厚；

基于包含上述離子液體的液狀介質的膜厚來控制一次電子的照射條件；和

按照上述一次電子的照射條件照射一次電子并對上述試料的形態進行圖像化。

4.根據權利要求3所述的電子顯微法，其特征在于，

還包括以下工序：

將包含離子液體的液狀介質涂敷至試料的觀察面；和

將包含上述離子液體的液狀介質在上述試料上薄膜化。

5.根據權利要求4所述的電子顯微法，其特征在于，

對以下工序處理多次：

將包含上述離子液體的液狀介質涂敷至上述試料的觀察面；

將包含上述離子液體的液狀介質在上述試料上薄膜化；和

對包含上述離子液體的液狀介質的膜厚進行測量。

6.根據權利要求3所述的電子顯微法，其特征在于，

對包含上述離子液體的液狀介質的膜厚進行測量的工序包括以下工序：

向上述試料的觀察面照射脈沖電子；

檢測通過上述脈沖電子放射的二次電子信號；和

根據上述二次電子信號來解析二次電子放射率的一次電子加速電壓依賴性。

7.根據權利要求3所述的電子顯微法，其特征在于，

對包含上述離子液體的液狀介質的膜厚進行測量的工序包括以下工序：

對在向上述試料的觀察面照射一次電子時感應的基板電流進行測量；和

解析所測量到的基板電流的一次電子加速電壓依賴性。

8.一種電子顯微鏡，其特征在于，具有：

電子源，其放射一次電子；

試料座，其保持試料；

排氣室，其設置上述試料座并進行排氣；

透鏡系統，其將上述一次電子匯聚于上述試料；

偏轉器，其對上述一次電子進行掃描；

檢測器，其對通過上述一次電子而從上述試料放射出的二次電子進行檢測；

圖像生成部，其通過上述二次電子形成圖像；

試料室，其設置上述試料座；

測量機構，其對上述試料上的薄膜狀或者網膜狀的包含離子液體的液狀介質的膜厚進行測量；和

基于上述試料上的包含離子液體的液狀介質的膜厚的上述一次電子的照射條件控制部。

9.根據權利要求8所述的電子顯微鏡，其特征在于，

對包含上述離子液體的液狀介質的膜厚進行測量的測量機構具有：

脈沖形成部，其形成對上述一次電子進行脈沖化所得到的脈沖電子；

二次電子信號解析部，其根據通過上述脈沖電子而從上述試料放射的二次電子信號來解析二次電子放射率；和

二次電子放射率解析部，其解析上述二次電子放射率的一次電子加速電壓依賴性。

10.根據權利要求8所述的電子顯微鏡，其特征在于，

對包含上述離子液體的液狀介質的膜厚進行測量的測量機構具有：

基板電流測量部，其測量對上述試料照射上述一次電子時所感應的基板電流；和

基板電流解析部，其解析上述基板電流的一次電子加速電壓依賴性。

11.根據權利要求8所述的電子顯微鏡，其特征在于，

在保持上述試料的上述試料座或者上述試料室中具有對上述試料的觀察面涂敷包含上述離子液體的液狀介質的涂敷部。

12.根據權利要求11所述的電子顯微鏡，其特征在于，

在保持上述試料的上述試料座或者上述試料室中具有對涂敷在上述試料上的包含上述離子液體的液狀介質進行薄膜化的機構。